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2018 年度 実績報告書

雰囲気制御分子線エピタキシャル結晶成長による規則的マイクロテクスチャの自律的創成

研究課題

研究課題/領域番号 16K06031
研究機関東京工業高等専門学校

研究代表者

角田 陽  東京工業高等専門学校, 機械工学科, 准教授 (60224359)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
キーワード微細加工 / エピタキシャル成長 / テクスチャ
研究実績の概要

本研究におけるマイクロテクスチャとは,代表寸法がマイクロメートルオーダ以下の単位規則形状が無秩序に,または秩序よく規則的に整列配置されている面である.同面を持つ機械構造体や機械要素部品では,平滑面にはない,構造発色のような機能や摩擦減少等の省エネルギ化への寄与など,地球環境問題対策をはじめ,さまざまな分野への直接的・間接的な波及効果が期待できる.しかし,その創成技術の確立は十分とはいえない.そこで本研究では,規則的配列マイクロテクスチャ創成技術のひとつとして,雰囲気制御環境下での分子線エピタキシャル結晶成長における分子の自律的な整列現象により,従来にない多様な単位規則形状が整列したマイクロテクスチャの創成技術の確立をめざす.実際の試作実験や解析により,その創成技術の確立に資する知見を得ることを大目的としている.
本年度は,昨年度に引き続き,研究目的である,雰囲気制御環境下での分子線エピタキシャル結晶成長における現象を実験結果をもとに解析し,その場合のマイクロテクスチャ創成技術として確立に資する知見を得た.アルゴンガス雰囲気制御環境下における平滑基板上でのエピタキシャル結晶成長実験により,アルゴンガス流量を変化させた場合の単結晶基板での成長条件に及ぼす影響について,マイクロテクスチャの基本となる単位規則形状の創成との関係で実験的に検討した.雰囲気制御環境下における,マイクロテクスチャ面創成の明確化のための各種実験を実施し,一定の成果を得ることができたと考えている.

  • 研究成果

    (1件)

すべて 2018

すべて 学会発表 (1件) (うち国際学会 1件)

  • [学会発表] Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra Flat Smooth Surfaces by Applying Molecular Beam Epitaxy with Helicon Sputtering Molecular Beam Source for Nanoimprint Die2018

    • 著者名/発表者名
      A. KAKUTA, S. MARUTA
    • 学会等名
      World Congress on Micro and Nano Manufacturing(WCMNM2018)
    • 国際学会

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公開日: 2019-12-27  

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