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シリコン細線導波路上に構成した2段縦続接続型非対称マッハツェンダ干渉計を基礎とする多チャネル一括光学的フーリエ符号化・復号化（ODFT）素子に関する研究を継続して行った。
前年度に設計した改良型シリコン基板を試作し，評価実験を行った。第2回試作の主目的は（1）光遅延線の遅延時間を最適化，（2）可変光減衰器の実装，（3）フォトニック結晶導波路型小型光遅延線の試験的実装，（4）光強度モニターの試験的実装であった。第1回とは異なる製造サービスを利用したこと，結合用のレンズファイバを破損して，以前とは異なるレンズファイバを用いざるを得なかったことから，光ファイバとの結合損失が増大し出力光強度が低下したことから，（1）（3）については特性を評価できなかった。また，（2）（4）については，シリコン基板と光ファイバの結合系の構造上，電極をシリコンチップにコンタクトさせることができず，動作を確認することができなかった。並行して，前年度の研究成果の公表に取り組んだ。フォトニック結晶導波路型小型光遅延線の結合損失を低減するためのチャープ構造結合器に対する2次元FDTD解析結果を，国内の論文誌に投稿し，条件付き採録となったが，2度目の査読で採択の条件をクリアできていないとのことから，不採択となった。光関係の国際会議に投稿したところ採択されたが，並行して投稿していた論文誌の査読結果の不採択理由において我々が知りえていなかった過去の国際会議論文で類似の提案があるとの指摘を受け，国際会議の投稿論文も取り消した。次に，第1回試作基板の問題であった固定型光減衰器の減衰量の誤差による光符号傾斜の影響とその改善方法に対する数値シミュレーションの結果についてはOptics Express誌に投稿し，無事に採択された。
シリコン細線導波路技術によるODFT素子実現という目標は達成できたが，その評価は今後の課題である。
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