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Pseudolaric acid Bは強力な抗菌・抗腫瘍活性を有し、新たながん治療のリード化合物として期待されている。しかしながら、本化合物の全合成はこれまでTrostらによる一例しか報告されていなかったため、本研究では類縁体合成にも応用可能な新規合成経路の開発を研究目的としている。
Pseudolaric acid Bの合成における最重要課題は特異な5員環と7員環のトランス縮環構造の構築であり、昨年度までにジエステルに対するDieckmann縮合により本構造を構築できることを見出していた。 ただし、本合成ルートにおいては、工程数の煩雑さとラジカル反応における収率の低さが問題となっていた。そこで本年度は合成の更なる効率化を目指し、オレフィンメタせシス反応を鍵反応とする新たな合成戦略のもと光学活性体合成に取り組んだ。不斉アルドール反応を用いる原料合成においては、基質合成の途中段階のラジカル反応において望まない副反応を引き起こすべンジル系の保護基をシリル系のTIPS保護基へと変更した。この基質からこれまでと同様の経路にて調製したアルデヒドに対して、p-メトキシベンジルオキシメチルリチウムを付加させ一炭素を導入後、ヨードラクトン化およびアリルスズ化合物とのラジカル反応により炭素側鎖を導入した。さらに還元的にテトラヒロドフラン環を開環し、第二世代Grubbs触媒を用いて閉環メタセシス反応を行うことで、Pseudolaric acid Bの5員環と7員環のトランス縮環構造の構築に成功した。
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