| 研究課題/領域番号 |
16K13636
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
吉本 護 東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (20174998)
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| 研究協力者 |
金子 智
松田 晃史
嶋田 航大
後藤 りさ
木下 太一郎
山田 志織
岩佐 健
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | ナノインプリント / フレキシブル基板 / PMMA / ポリイミド / ナノパターン / 原子ステップ / ナノドット / ナノコンタクト転写 |
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| 研究成果の概要 |
高耐熱性ポリイミドなどのフレキシブルポリマー基板上に単原子層レベル（約0.3nm）高さの原子ステップ構造を熱ナノインプリントにより形成して、シリコン単結晶並みの超平坦な有機系基板を独自に作製し、その基板上での特異な無機系や金属系のナノ構造の構築を目的として研究を行った。ポリマー基板上に種々のナノ構造を構築するために、パルスレーザー堆積法とナノコンタクトプリント転写法を併用した。ナノピラー配列およびナノホール配列したモールド面に金やZnOの極薄膜を堆積し、それを原子ステップ型超平坦ポリマー基板上に押しつけて極薄膜をプリント転写し、ナノメッシュ状やナノドット状の配列パターンを得ることができた。
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| 自由記述の分野 |
機能材料科学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
これまでの量子機能電子デバイスやナノ構造を制御した光電子機能薄膜の構築にはシリコンやサファイアなどの無機系基板が広く用いられてきたが、本研究成果により、独自に作製された超平坦ポリマー基板は、次世代超機能フレキシブル電子デバイス用基板として極めて有望であることが実証された。また、高分子科学の観点からみて注目すべき点は、高分子材料のようにミクロンオーダーの巨大分子鎖が複雑に絡み合う表面においても、モノマー分子サイズ(約0.5 nm)よりも小さな原子スケール(約0.3nm)の段差パターンが転写されたことである。
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