• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2017 年度 実施状況報告書

原子構造が制御されたグラフェンを搭載した触媒工具による次世代半導体表面の創成

研究課題

研究課題/領域番号 16K14133
研究機関大阪大学

研究代表者

有馬 健太  大阪大学, 工学研究科, 准教授 (10324807)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
キーワードグラフェン / 触媒 / 半導体表面 / 選択エッチング
研究実績の概要

半導体デバイスの信頼性は、デバイス構築前の半導体表面の平坦性によって決まっている。しかし、Si以外の半導体では、表面平坦化技術の開発は未だ端緒についたばかりである。これまでに、液相中での白金触媒を用いた独自の手法により、原子レベルで平坦なSiC表面やGe表面を形成する研究に従事してきた。しかし、この手法には、仕上げ表面に金属汚染が残留するという問題点があった。特に、金属汚染を除去するための強酸化剤が使用できない半導体材料の場合、この問題は致命的である。
そこで代表者は、炭素(C)の二次元ネットワーク構造であるグラフェンがPtと似た触媒作用を示すことに着目した。本研究の最終的な目的は、Cネットワーク内の原子構造が制御できるグラフェン触媒の合成プロセスを確立し、このグラフェン触媒を搭載した触媒工具を試作するための道筋を立てることにある。
本年度は、まず、遠心分離器によって選別・抽出したグラフェンシートをグラファイト基板上に散布した。そして、走査型プローブ顕微鏡を用いて、グラフェンシートの原子レベルでの構造を観察した。また、グラフェンシートの作製方法について再検討を行い、異種元素のドーピングに着目した。そして、オートクレーブを用いた水熱合成法を採用し、グラフェンネットワーク内に窒素原子をドーピングすることに成功した。
次に、得られたグラフェンシートを半導体表面上に散布し、エッチングレートに影響を与える実験パラメータを把握した。これにより、代表者が見出した”グラフェンアシスト型化学エッチング”の基礎特性を明らかにした。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

本年度は、グラフェンシートが溶液中で触媒的な機能を発現し、半導体表面を選択的にエッチングすることを確認し、その基礎特性を明らかにした。また、実用的な表面創成プロセスに展開するためには、エッチングレートの向上が不可欠であるという新たな課題を見出し、これを解決するための実験にも取り組んだ。そして、グラフェンシートへの異種元素のドーピングが、エッチングレートを向上する上で、一つの効果的な手法であることを明らかにした。以上により、本研究はおおむね順調に進展していると考えている。

今後の研究の推進方策

これまでに、グラフェンアシストエッチングの現象自体は把握できた。しかし、得られた結果は定性的に過ぎない。これを学問的に確固たるものとし、生産プロセスに展開するためには、各実験パラメータ(エッチング溶液の組成や温度、グラフェンシートの組成)がエッチング性能に与える影響を定量的に理解することが不可欠である。今後は、上記の観点から実験を進め、最終的に目指す、触媒工具を試作するための道筋を立てたいと考えている。

次年度使用額が生じた理由

本年度、グラフェンシートが発現する触媒機能について調査する過程で、半導体表面のエッチング速度に影響を与える新たな実験パラメータの可能性を見出した。この結果に基づき、本事業の目的をより高いレベルで実現するために、追加実験が必要となった。これに充当するため、差額が発生した。

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2018 2017 その他

すべて 国際共同研究 (1件) 雑誌論文 (3件) (うち国際共著 1件、 査読あり 3件) 学会発表 (3件) (うち国際学会 3件、 招待講演 1件)

  • [国際共同研究] ローレンスバークレー国立研究所(米国)

    • 国名
      米国
    • 外国機関名
      ローレンスバークレー国立研究所
  • [雑誌論文] Chemical etching of a semiconductor surface assisted by single sheets of reduced graphene oxide2018

    • 著者名/発表者名
      Hirano Tomoki、Nakade Kazuki、Li Shaoxian、Kawai Kentaro、Arima Kenta
    • 雑誌名

      Carbon

      巻: 127 ページ: 681~687

    • DOI

      10.1016/j.carbon.2017.11.053

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Formation of Etch Pits on Germanium Surfaces Loaded with Reduced Graphene Oxide in Water2017

    • 著者名/発表者名
      Nakade Kazuki、Hirano Tomoki、Li Shaoxian、Saito Yusuke、Mori Daichi、Morita Mizuho、Kawai Kentaro、Arima Kenta
    • 雑誌名

      ECS Transactions

      巻: 77 ページ: 127~133

    • DOI

      10.1149/07704.0127ecst

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reactivity of Water Vapor with Ultrathin GeO2/Ge and SiO2/Si Structures Investigated by Near-Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy2017

    • 著者名/発表者名
      Arima Kenta、Hosoi Takuji、Watanabe Heiji、Crumlin Ethan J
    • 雑誌名

      ECS Transactions

      巻: 80 ページ: 131~140

    • DOI

      10.1149/08002.0131ecst

    • 査読あり / 国際共著
  • [学会発表] Reactivity of Water Vapor with Ultrathin GeO2/Ge and SiO2/Si Structures Investigated by Near-Ambient-Pressure X-ray Photoelectron Spectroscopy2017

    • 著者名/発表者名
      Kenta Arima, Takuji Hosoi, Heiji Watanabe, and Ethan J Crumlin
    • 学会等名
      232nd Meeting of The Electrochemical Society
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Catalysts to Enhance Chemical Etching of Ge Surfaces in Water: From Noble Metals to Reduced Graphene Oxide2017

    • 著者名/発表者名
      Kenta Arima, Kazuki Nakade, Daichi Mori, Yusuke Saito, Kentaro Kawai, and Mizuho Morita
    • 学会等名
      231st Meeting of The Electrochemical Society
    • 国際学会
  • [学会発表] Effect of Reduction of Graphene Oxide on Enhanced Etching of Ge Surfaces in O2-containing Water2017

    • 著者名/発表者名
      Tomoki Hirano, Kazuki Nakade, Shaoxian Li, Mizuho Morita, Kentaro Kawai, Kenta Arima
    • 学会等名
      The 8th International Symposium on Surface Science
    • 国際学会

URL: 

公開日: 2018-12-17   更新日: 2022-02-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi