| 研究課題/領域番号 |
16K14133
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
生産工学・加工学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
有馬 健太 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (10324807)
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| 研究協力者 |
中出 和希
李 韶賢
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 界面化学 / 触媒反応 / グラフェン / 半導体プロセス / エッチング |
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| 研究成果の概要 |
液相還元プロセスや水熱合成プロセスを経て形成した複数種類の還元グラフェンシートについて、還元の度合いや窒素原子のドープ位置・濃度を調査した。そして、種類の異なる還元グラフェンシートは、半導体表面を溶液中でエッチングする触媒能力がそれぞれ異なることを示唆する結果を得た。また、グラフェン触媒を半導体基板上にパターン化して形成し、パターン領域を選択的に加工することを試み、基礎的な知見を得た。
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| 自由記述の分野 |
半導体表面科学
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
シリコンを基板とした電子デバイスの性能向上が限界に達しつつある今日、従来とは異なる材料を導入する試みが世界レベルで進んでいる。デバイスの作製には、ウェットエッチングが不可欠である。近年、貴金属と接触した半導体表面が、溶液中で選択的に溶解することを利用した金属アシストエッチングが盛んに研究されている。代表者は、貴金属を用いない、グラフェンアシストエッチングの開発に取り組み、基礎特性を明らかにした。
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