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ステンシルマスクを用いたエレクトロスプレーデポジション(ESD)法は，生体/有機高分子材料を広範囲にマイクロパターニングできるため注目されている．しかし，ステンシルマスク穴のナノ加工は難しく，粒子が詰まる可能性も高いためパターンの微細化には限界がある．本論文では，ESD法と静電場の制御が可能なステンシルマスクを用いた新たなパターニング手法を提案し，ステンシルマスク穴より小さいパターニングやパターンサイズの制御を目的とする．
磁性体と絶縁体からなるステンシルマスクと磁力によるギャップ変化を用いた制御法，および，静電レンズを有するステンシルマスクと印加電圧の変化を用いた制御法を明確にした．
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