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欠陥検査では，ラインセンサやCCDカメラ等を用いるのが一般的であり，多方面に利用されている．現在，欠陥検出への要求は対象欠陥の微小化と，検査領域の広範囲化がある．この2つの要求は相反するものであり，微小な欠陥検出のために光学系の倍率を上げると，観察領域は狭くなる．他にも，フィルムやガラスなどの薄い透明体に対しては，照明系の選択も難しくなり，従来のカメラ型システムが不得意な分野であり，新たな手法の提案が待たれている．
本研究では既開発の広視野レーザ顕微鏡がnmレベルの微細欠陥を検出できるかを調べた．その結果，サファイアガラスとSiウエハに作製した数nmの浅い欠陥でも検出できることを示した．
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