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2016 年度 実施状況報告書

金属短針電流雑音誘起機構による半導体単一電子トラップ検出と評価

研究課題

研究課題/領域番号 16K14240
研究機関北海道大学

研究代表者

葛西 誠也  北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 教授 (30312383)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
キーワード半導体物性 / 単一電子トラップ / 評価解析 / 走査プローブ
研究実績の概要

半導体中の電子トラップは各種半導体デバイスの不安定性、寿命、雑音など、多くの信頼性劣化要因となっている。本質的な信頼性改善には個々のトラップの位置と性質を知り制御する必要がある。しかしながら個々のトラップを捉えて素子に与える影響を直接的に知る手段はまだ存在しない。これを可能にする計測手法が望まれている。
以上を背景のもと、本研究の目的は、独自に見いだした金属短針と半導体表面の微小領域容量結合による雑音誘起メカニズムと高い空間分解能をもつ走査プローブ顕微鏡技術を組み合わせた新規計測系を確立し、単一電子トラップを評価する手法を開拓することである。
平成28年度の研究実施計画は(1)計測系の確立:現有の走査プローブ系に適合する被測定サンプルの電極コンタクト用超低雑音プローブを設計導入し、被測定サンプル準備および測定の効率を高める。(2)高い捕獲エネルギートラップ検出方法の開拓:現状では、時定数が非常に長く現実的に計測な時間スケールで電流変化が生じない場合が多いことが問題となっている。本問題解決のため、短針バイアスコントロールを取り入れる。局所的な表面ポテンシャルの変化を通し、単一トラップの捕獲エネルギーを補償することで、ナノワイヤとトラップの電荷のやり取りすなわちランダムテレグラフ雑音を誘起させて、当該トラップの検出を可能にする。
本年度の実施研究は、計画のうち(1)の超低雑音プローブを計測器メーカと設計し現有の原子間力顕微鏡(AFM)系に導入した。これを使用し素子の雑音測定が可能であることを確認し、準備と測定の効率化が可能になった。また(2)についてバイアス印加によって、バイアス0の際には検出不可能なトラップの検出が可能であることを実験的に示した。よって計画はほぼ達成することができた。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

ほぼ当初計画通り進捗している。
現有の走査プローブ系に試作素子との電気的接触をとるための超低雑音プローブを設計し導入した。これによりサンプル準備や測定が効率的に行えるようになった。また、短針バイアス印加によってエネルギー的に深い位置にある表面トラップの検出に成功し、当初のコンセプトを実験実証できた。空間分解測定のための短針スキャンと雑音計測を自動化する機能の実装に着手した。

今後の研究の推進方策

(1)ナノワイヤ電流雑音の短針バイアス依存性を詳細に測定解析することにより単一トラップに関する物性評価が可能であることを示す。
(2)空間分解測定のための短針スキャンと雑音計測を自動化する機能の実装を引き続き進める。
(3)本研究の検出技術を単一分子の電荷ダイナミクス検出へ応用する検討を開始する。

次年度使用額が生じた理由

成果発表のための学会旅費(交通費)について当初予定より安価な航空券を利用したため。

次年度使用額の使用計画

物品費として利用する。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2017 2016

すべて 学会発表 (6件) (うち国際学会 3件)

  • [学会発表] 多重ゲートナノワイヤFETによる空間分布分子電荷検出実証のための単一分子表面分散手法の検討2017

    • 著者名/発表者名
      佐々木健太郎、岡本翔真、殷翔、佐藤将来、葛西誠也
    • 学会等名
      第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県・横浜市)
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] Detection of Charge State of Single Molecules Using A GaAs- Based Nanowire Enhanced by Metal-Molecule Capacitive Coupling2016

    • 著者名/発表者名
      S. Okamoto, M. Sato, K. Sasaki and S. Kasai
    • 学会等名
      29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)
    • 発表場所
      ANAクラウンプラザホテル京都(京都府・京都市)
    • 年月日
      2016-11-08 – 2016-11-11
    • 国際学会
  • [学会発表] Nanoscale Surface Structural Evolution in GaAs Digital Wet Etching with Sub-second Oxidation and Dissolution Process2016

    • 著者名/発表者名
      R. Kuroda, X. Yin, and S. Kasai
    • 学会等名
      29th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2016)
    • 発表場所
      ANAクラウンプラザホテル京都(京都府・京都市)
    • 年月日
      2016-11-08 – 2016-11-11
    • 国際学会
  • [学会発表] 金属探針表面局所電位変調によるGaAs表面トラップ位置の評価2016

    • 著者名/発表者名
      佐藤将来、殷翔、黒田亮太、葛西誠也
    • 学会等名
      第77回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ(新潟県・新潟市)
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] Fabrication and Characterization of A Multiple Gate Nanowire FET for Detecting Spatially Distributed Molecular Charges2016

    • 著者名/発表者名
      K. Sasaki, R. Kuroda, X. Yin, M. Sato, T. Ogawa, and S. Kasai
    • 学会等名
      The 43rd International Symposium on Compound Semiconductor (ISCS2016)
    • 発表場所
      富山国際会議場(富山県・富山市)
    • 年月日
      2016-06-26 – 2016-06-30
    • 国際学会
  • [学会発表] Atomic-level GaAs digital wet etching using a computer-controlled multiple spraying system2016

    • 著者名/発表者名
      R. Kuroda, M. Sato, and S. Kasai
    • 学会等名
      35th Electronic Materials Symposium (EMS-35)
    • 発表場所
      ラフォート琵琶湖(滋賀県・守山市)
    • 年月日
      2016-06-06 – 2016-06-08

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公開日: 2018-01-16  

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