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2019 年度 研究成果報告書

精度1nm以下を実現する量産細線技術の開発

研究課題

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研究課題/領域番号 16K14439
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 材料加工・組織制御工学
研究機関国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 (2017-2019)
大阪大学 (2016)

研究代表者

山本 洋揮  国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部, 主幹研究員(定常) (00516958)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2020-03-31
キーワード材料・加工 / 半導体微細化 / ナノ加工 / ナノ材料
研究成果の概要

半導体業界では10年後には、極めて少ない照射量でかつ1 nm以下の精度で10 nm以下のパターンを加工する技術が求められている。本研究では、ガンマ線または化学還元を使って有機溶液中または水溶液でより均一かつ微細な金属ナノ粒子の作製に試み、10 nm以下の均一な金属ナノ粒子を作製することに成功した。また、合成した金ナノ粒子をビルディングブロックとしてジチオール自己組織化単分子膜(SAM)の微細パターン上に配列制御することに成功した。固体高分子薄膜中での金属ナノクラスターのアグリゲーション過程を調べた結果、精度1 nmの量産細線技術を実現するための糸口を見つけることができた。

自由記述の分野

放射線化学

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究は固体表面や界面および、固体ポリマー薄膜中での金属アグリゲーションの現象を解明する点で、学術的に高い意義がある。本研究の精度1 nm以下の量産細線技術の開発で得られた研究成果は、最先端の半導体リソグラフィでも現在のところ開発の糸口さえ掴めていない11 nm以下の加工を1nm以下の精度で行うことができる新しい微細加工技術および微細加工材料の開発につながり、将来のナノテクノロジーあるいはナノサイエンスの産業応用の実現に繋がるナノ配線のような新規微細加工技術として期待される。

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公開日: 2021-02-19  

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