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本研究では，新規なポリマー合成法である超音波ラジカル重合法において，超音波照射条件を精緻に制御することで分子量分布の極めて狭い，かつ所望の組成を有する共重合ポリマーを合成するプロセスを構築することを目的とした。具体的には，感温性を有するポリN-イソプロピルアクリルアミドと強度を付与するポリメタクリル酸2-ヒドロキシエチルの共重合コポリマーを対象として，超音波照射条件を制御することでラジカル発生速度，重合速度，生成ポリマー分解速度を制御し，分子量分布の指標である分散度を1.5以下に保持しつつ，所望の共重合組成を有するコポリマーを合成した。研究遂行により，以下のことを解明した。
１．先ず，基礎的知見として，ポリN-イソプロピルアクリルアミドとポリメタクリル酸2-ヒドロキシエチルの共重合ポリマー合成実験を行なった。そして，合成実験における操作因子と生成共重合ポリマーの分子量，分散度，共重合組成との関係，生成した共重合ポリマーの分子量，分散度，共重合組成と温度応答性との関係を明らかにした。
２．超音波照射による共重合ポリマーの生成機構を検討した。そして，開始剤となるラジカル生成の速度は超音波強度に比例すること，生成ポリマーの分解によってポリマーラジカルが生成することを明らかにした。
３．超音波照射下における共重合ポリマー生成速度論モデルを構築した。反応機構は次の通りである。超音波照射によってラジカルが生成する。このラジカルを開始剤として共重合成長反応，それに続く停止反応が進行する。また，せん断力によるポリマーの分解によってもポリマーラジカルが生成する。構築した速度論モデルを用いて，転化率，分子量，分子量分布，共重合組成を表現できた。
以上，超音波照射条件を制御することで分散度を1.5以下に保持しつつ，所望の共重合組成を有するコポリマーを合成するプロセスが確立された。
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