| 研究課題/領域番号 |
16K17494
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 山形大学 |
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研究代表者 |
鹿又 健作 山形大学, 有機材料システム研究推進本部, 助教 (60771243)
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| 研究期間 (年度) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| キーワード | 室温原子層堆積 / 多重内部反射型赤外吸収分光 / 加湿アルゴンプラズマ / X線光電子分光 / タンパク質 / 生体模擬材料 |
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| 研究成果の概要 |
これまで行われてこなかった樹脂膜上の室温原子層堆積における表面反応観察に取り組んだ。一例として、アクリル膜上での酸化シリコンの室温原子層堆積過程を赤外吸収分光によって観察し、Ｓｉ基板上とは、挙動が異なることを見出している。また、磁性ドラッグデリバリー向けの室温酸化鉄原子層堆積プロセス開発のためにSi基板上における原料分子の吸着と酸化過程を観察し、室温酸化鉄原子層堆積プロセス設計を行った。今後、生体親和性のある酸化チタンコートと磁気特性が期待できる酸化鉄コートを粉体に対して実施し、MRI用の造影剤、ドラッグデリバリー用コアシェル微粒子へ発展させたいと考えている。
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| 自由記述の分野 |
室温原子層堆積
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究では、室温原子層堆積の分野において、それまで未踏であった有機膜上の原料分子の吸着過程と酸化過程を多重内部反射型赤外吸収分光によって動的に観察する研究を進めた。有機膜の一例として、アクリル樹脂をSi基板上に塗布し、酸化シリコンの原料分子の吸着と酸化過程が両者で異なることを見出している。実際にアクリル膜上とSi基板上で酸化シリコンの室温原子層堆積を行うとアクリル膜上では、一定のサイクル数まで膜が堆積しない、インキュベーションタイムが見られた。これより、有機膜上では堆積条件を調整する必要があることが分かった。この知見は、樹脂材料へのガスバリアコートの際のプロセス設計に有用であると考えられる。
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