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2016 年度 実施状況報告書

フォノン閉じ込めによる太陽電池エネルギー変換効率向上策の提案

研究課題

研究課題/領域番号 16K17511
研究機関千葉大学

研究代表者

MA BEI  千葉大学, 大学院工学研究科, 助教 (90718420)

研究期間 (年度) 2016-04-01 – 2019-03-31
キーワードフォノン / 励起子 / キャリア / ダイナミクス
研究実績の概要

(1)ヘテロ接合界面でのフォノン輸送・キャリア動的過程計算
AlxGayInzN(x+y+z=1)の組成制御によるフォノンバンド制御を行ったヘテロ界面における、光学・音響フォノンの分解・結合を考慮した反射・透過過程の数値計算を行った。In組成zを変えることで、バンド不連続とピエゾおよび変形ポテンシャル差によるフォノン輸送速度の非等方性を変化する可能性を証明した。基板をGaNとした場合に、フォノン輸送の非対称性が期待できる超格子構造の一例としてAlN3 (Al0.24 In0.76 N) 1 / AlN1 (Ga0.925 In0.075 N) 3 ヘテロ接合を提案した。
(2)量子井戸構造のフォノン・キャリア動的過程計算
上記を基盤にAlGaN系量子井戸構造を想定し、井戸内のピエゾ電解、自発内部電界を取り入れ、キャリア・フォノン・励起子の動的過程の変化機構の一部を解明した。量子構造はヘテロ構造によりフォノン閉じ込めが強められると同時に、電子・正孔の波動関数の重なりが増え、発光再結合が増加すると証明した。さらに、フォノン局在性をパラメーターとして、光学フォノンと音響フォノンを比較した結果、音響フォノン密度が光学フォノンより2桁高いにも関わらず、光学フォノンのほうがキャリア取り出し率に最も影響することが判明した。その光学フォノン局在寿命を2桁変化させた場合、励起子として、キャリア取り出し効率向上の可能性について、シミュレーションで検証し、励起子へ影響は長時間に継続し、200 ps にも上回った。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

「研究実施計画」(3)不純物・結晶欠陥のキャリア動的過程理論計算を行うに至っていないが、(1)ヘテロ接合界面でのフォノン輸送・キャリア動的過程計算や(2)量子井戸構造のフォノン・キャリア動的過程計算は行った。

今後の研究の推進方策

不純物・結晶欠陥のキャリア動的過程理論計算を行う。更に実験において、結晶欠陥、ヘテロ構造、量子井戸構造の光学・電流同時測定及び解析へ移して、シミュレーションの計算結果を実験結果と比較する。

  • 研究成果

    (25件)

すべて 2017 2016 その他

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (20件) (うち国際学会 7件、 招待講演 1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Raman study of the quantum interference of multiple discrete states and a continuum of states in the phonon energy region of semiconductors: examples of p-type Ga0.5In0.5P films2016

    • 著者名/発表者名
      Hironori Sakamoto, Bei Ma, Ken Morita and Yoshihiro Ishitani
    • 雑誌名

      Journal of Physics D: Applied Physics

      巻: 49 ページ: 375107

    • DOI

      https://doi.org/10.1088/0022-3727/49/37/375107

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Theoretical investigation of nonthermal equilibrium exciton dynamics in GaN using hydrogen plasma model2016

    • 著者名/発表者名
      Tomohiro Iwahori, Bei Ma, Ken Morita, and Yoshihiro Ishitani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 55 ページ: 05FM06

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FM06

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Depth profile characterization technique for electron density in GaN films by infrared reflectance spectroscopy2016

    • 著者名/発表者名
      Takaaki Kamijoh, Bei Ma, Ken Morita and Yoshihiro Ishitani
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 55 ページ: 05FH02

    • DOI

      http://doi.org/10.7567/JJAP.55.05FH02

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Excitation and deexcitation dynamics of excitons in a GaN film based on the analysis of radiation from high-order states2016

    • 著者名/発表者名
      Yoshihiro Ishitani, Kazuma Takeuchi, Naoyuki Oizumi, Hironori Sakamoto, Bei Ma, Ken Morita, Hideto Miyake and Kazumasa Hiramatsu
    • 雑誌名

      Journal of Physics D: Applied Physics

      巻: 49 ページ: 245102

    • DOI

      doi:10.1088/0022-3727/49/24/245102

    • 査読あり
  • [学会発表] GaNにおける定常状態励起子分子準位間遷移過程理論計算2017

    • 著者名/発表者名
      野町健太郎, 大木健輔, 馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      2017年第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] 磁場下赤外反射分光によるInN電子有効質量の解析2017

    • 著者名/発表者名
      松本大、馬ベイ、森田健、福井一俊、木村真一、飯塚拓也、石谷善博
    • 学会等名
      2017年第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] GaNにおける励起子及び自由キャリアの密度とレート係数の理論計算2017

    • 著者名/発表者名
      大木 健輔, 野町健太郎, 馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      2017年第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] 金属/半導体複合構造におけるLOフォノン-プラズモン結合モード共鳴赤外光吸収とポラリトン損失2017

    • 著者名/発表者名
      竹内映人、坂本裕則、馬ベイ、森田健、石谷善博
    • 学会等名
      2017年第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] AlN/金属ストライプ構造のラマン散乱スペクトルにおける A1-E1選択則の崩れに関する検討2017

    • 著者名/発表者名
      坂本裕則,馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      2017年第64回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      2017-03-14 – 2017-03-17
  • [学会発表] Phononic phenomenon in carrier dynamics and interaction with radiation in III-nitride materials2017

    • 著者名/発表者名
      Yoshihiro Ishitani, Bei Ma, Kensuke Okim Hironori Sakamoto, and Ken Morita
    • 学会等名
      3rd Intensive Discussion on Growth of Nitride Semiconductors (IDGN-3)
    • 発表場所
      Tohoku university, Japan
    • 年月日
      2017-01-16 – 2017-01-18
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Phonon Engineering of Semiconductors in THz frequency region2016

    • 著者名/発表者名
      Yoshihiro Ishitani, Hironori Sakamoto, Eito Takeuchi, Bei Ma, and Ken Morita
    • 学会等名
      International Conference on Science and Engineering
    • 発表場所
      Yangon Myanmar
    • 年月日
      2016-12-10 – 2016-12-11
    • 国際学会
  • [学会発表] Electronic transition dynamics of deep levels in a p-GaN film analysed by time resolved PL measurements using two excitation laser beams2016

    • 著者名/発表者名
      Hla Myo Tun, Ryo Shouji, Bei Ma, Ken Morita, Kenji Shiojima
    • 学会等名
      International Conference on Science and Engineering
    • 発表場所
      Yangon Myanmar
    • 年月日
      2016-12-10 – 2016-12-11
    • 国際学会
  • [学会発表] p-Ga0.5In0.5Pにおける複数種LOフォノン系量子干渉効果および、フォノン系電磁誘起透明化のスペクトル計算2016

    • 著者名/発表者名
      坂本裕則、馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      第5回結晶成長未来塾
    • 発表場所
      東京農工大学小金井キャンパス(東京),
    • 年月日
      2016-11-07 – 2016-11-07
  • [学会発表] Simulation of carrier-exciton-phonon dynamics in GaN in non-equilibrium state2016

    • 著者名/発表者名
      Bei Ma and Yoshihiro Ishitani
    • 学会等名
      Nitride Semiconductors (IWN 2016)
    • 発表場所
      Hilton Orlando Lake Buena Vista, Orlando, Florida
    • 年月日
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • 国際学会
  • [学会発表] Exciton dynamics and stability of GaN in non-thermal equilibrium state by the analysis taking into account the higher-order exciton states2016

    • 著者名/発表者名
      Yoshihiro Ishitani, K. Takeuchi, T. Iwahori, K. Oki, K. Nomachi, B. Ma, K. Morita, H. Miyake, and K. Hiramatsu
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Seiconductors 2016 (IWN2016)
    • 発表場所
      Orland, U.S.A.
    • 年月日
      2016-10-02 – 2016-10-07
    • 国際学会
  • [学会発表] p 型Ga0.5In0.5P における高濃度p型ドープ試料におけるフォノン系電磁誘起透明化のスペクトル計算2016

    • 著者名/発表者名
      坂本裕則,馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      2016年第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] 半導体/金属複合構造におけるLOフォノン-プラズモン結合モードでの赤外光吸収2016

    • 著者名/発表者名
      竹内映人,馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      2016年第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] GaNにおける励起子・励起子分子準位間遷移過程の理論計算2016

    • 著者名/発表者名
      野町健太郎,岩堀友洋, 大木健輔, 馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      2016年第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] フォノンの吸放出による電子・励起子系エネルギーの励起過程2016

    • 著者名/発表者名
      馬ベイ,三宅秀人,平松和政,石谷善博
    • 学会等名
      2016年第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      朱鷺メッセ
    • 年月日
      2016-09-13 – 2016-09-16
  • [学会発表] Introducing of Biexciton Processes into Exciton Dynamics Simulation for GaN Based on Collisional Phononic and Radiative Model2016

    • 著者名/発表者名
      Kentaro Nomachi, Tomohiro Iwahori, Kensuke Oki, Bei Ma, Ken Morita, and Yoshihiro Ishitani
    • 学会等名
      CSW2016
    • 発表場所
      Toyama, Japan
    • 年月日
      2016-06-25 – 2016-06-30
    • 国際学会
  • [学会発表] Quantum interference of three LO modes in p-type Ga0.5In0.5P: Contribution of a trigonal phonon mode2016

    • 著者名/発表者名
      Hironori Sakamoto, Bei Ma, Ken Morita, Yoshihiro Ishitani
    • 学会等名
      ISCS2016
    • 発表場所
      Toyama, Japan
    • 年月日
      2016-06-25 – 2016-06-30
    • 国際学会
  • [学会発表] GaNにおける定常状態励起子分子準位間遷移過程理論計算2016

    • 著者名/発表者名
      野町健太郎,岩堀友洋, 大木健輔, 馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      第8回窒化物半導体結晶成長講演会
    • 発表場所
      京都大学
    • 年月日
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [学会発表] 非熱平衡状態におけるGaN励起子ダイナミクスの実験解析及び数値計算2016

    • 著者名/発表者名
      馬ベイ,竹内和真,三宅秀人,平松和政,石谷善博
    • 学会等名
      第8回窒化物半導体結晶成長講演会
    • 発表場所
      京都大学
    • 年月日
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [学会発表] ラマン散乱スペクトルにおけるファノ干渉を用いた窒化物半導体の正孔濃度評価モデルの検討2016

    • 著者名/発表者名
      坂本裕則、馬ベイ, 森田健, 石谷善博
    • 学会等名
      第8回窒化物半導体結晶成長講演会
    • 発表場所
      京都大学
    • 年月日
      2016-05-09 – 2016-05-10
  • [備考] 量子デバイス研究室

    • URL

      http://photonics.te.chiba-u.jp/jisseki.html

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公開日: 2018-01-16  

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