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酸化グラフェン(GO)の光還元はグラフェン誘導体の大量生産・加工プロセスとして注目を集めており，研究代表者らは中心波長172 nmの真空紫外(VUV)光を高真空環境下で照射することによる光還元を報告してきた．本研究では酸化グラフェンに各種前駆体を結合させた後にVUV光照射することで窒素ドープ酸化グラフェン還元体の合成を行った．添加した窒素の結合様式を調べた結果，VUV光還元した試料のみ，pyridinic Nが増大した．原子間力顕微鏡にてシート膜厚を調べた結果，VUV光還元した試料のみ膜厚が減少した．GOに対する波長に依存した光化学修飾が示唆された．
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