2018 年度研究成果報告書

インプリンティング遺伝子の発現可視化と不活化アリル再活性化因子の探索

研究課題

PDF

研究課題/領域番号	16K19066
研究種目	若手研究(B)
配分区分	基金
研究分野	病態医化学
研究機関	国立研究開発法人理化学研究所
研究代表者	玉田紘太国立研究開発法人理化学研究所, 脳神経科学研究センター, 研究員 (10550957)
研究期間 (年度)	2016-04-01 – 2019-03-31
キーワード	ゲノムインプリンティング / 自閉症 / 遺伝子発現 / Ndn
研究成果の概要	ヒト染色体15q11-13領域の重複が自閉症のリスクとなることが報告されていることから、その遺伝子発現様式および機能を解明することが重要である。本研究では本領域におけるインプリンティング遺伝子の発現制御機構、およびその機能を解明することを目的とした。発現制御機構の解明としてKI動物が作製できずに終わった。しかし、機能解析について父性由来発現遺伝子を全てスクリーニングしたところ、Ndn遺伝子により自閉症様の行動学的異常のみならず、大脳皮質の興奮/抑制の不均衡、シナプスの異常が引き起こされることを見出し、Ndn遺伝子が自閉症のリスクとなることを新たに見いだした。
自由記述の分野	神経科学
研究成果の学術的意義や社会的意義	ヒト染色体15q11-13領域ではこれまでUbe3aという遺伝子のみが着目されてきた。しかし、近年になりUbe3aを含まない重複自閉症者が認められてきたことから、Ube3a以外の遺伝子も関与する可能性が挙げられてきた。しかし、その原因はこれまで明らかになっていない。本研究結果はNdnが新たな15q11-13領域中でのリスクとなり、自閉症発症分子メカニズム解明に向けた一歩となりうることを証明した成果となる。