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温度応答性ポリマーであるPNIPAMと液晶性ポリマーであるPMA(LC)を組み合わせた種々のブロックポリマーの合成を行い、PNIPAMドメインが垂直配向したシリンダーミクロ相分離構造形成のための薄膜作製条件検討、自立膜作製方法の検討を行った。
PNIPAMとPMA(LC)を組み合わせたジブロックコポリマーの場合、製膜溶媒への極少量の水添加によりPNIPAMドメインの垂直配向を達成した。ポリエチレンオキシドとPNIPAM、PMA(LC)を組み合わせたトリブロックターポリマーでは、水添加なしでも垂直配向誘起できる可能性が示唆された。また、光架橋反応を利用して、自立膜の作製に成功した。
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