研究課題/領域番号 |
17101004
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
尾嶋 正治 東京大学, 大学院工学系研究科, 教授 (30280928)
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研究分担者 |
組頭 広志 東京大学, 大学院工学系研究科, 助教授 (00345092)
大久保 勇男 東京大学, 大学院工学系研究科, 助手 (20376487)
小野 寛太 高エネルギー加速器研究機構, 物質構造化学研究所, 助教授 (70282572)
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キーワード | 放射光X線粒子線 / 電子顕微鏡 / 強相関電子系 / ナノ材料 / 環境材料 |
研究概要 |
平成18年は放射光光電子顕微鏡を用いたナノ分光法の展開のうち、1)磁性ナノ構造中磁気イメージング、2)半導体LSIゲート絶縁膜の加熱中シリサイド化反応過程解析、3)埋もれた界面の硬X線光電子顕微鏡イメージング、4)隕石中微結晶のEXAFS構造解析、5)時間分解XMCD法の予備検討、の5項目を行った。1)については、磁気記録デバイスとして期待されているLaSrMhO3薄膜中の磁区構造を円偏光利用XMCD-PEEMにより調べ、基板のステップ方向に強く磁化する、というステップ誘起一軸磁気異方性を見出した。さらに1-10μmに加工したLSMOパターンの形状磁気異方性、サイズ依存性を明らかにした。これらは磁気記録デバイスの特性向上に向けた重要な知見である。2)については、超高真空中での加熱プロセスにおいてHfO2/SiO2/Si界面で起こる局所シリケート化、シリサイド化を100nm空間分解能で解明し、還元反応であるシリサイドはシリケート化を伴って起こることを初めて明らかにした。3)については、Auナノパターンを200nm厚さのCo薄膜で埋め込み、Auパターンのイメージングを硬X線光電子顕微鏡で初めて実現した、という画期的な成果である。4)については、鉄隕石の特異な磁気特性の解析を行い、ウイドナンステッテン構造の微細構造の界面にNiが偏析出していること、Bcc-fcc界面に偏析したL10-FeNi薄膜が寄与していることを明らかにした。さらに5)については、SPring-8の203パンチに完全同期させた磁場パルスを発生させ、100psec単位の任意の遅延時間でディレイをかけられることも確認した。また、幅15μmのマイクロストリップライン上に作製した5μmの試料の像をマイクロビームにより観察することが出来た。一方、本研究の発展として新しくSPring-8に東大軟X線ビームラインを建設することが決まり、今後3年間で高分解能ナノ分光法の確立をめざしていく。
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