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2007 年度 実績報告書

205-250nm帯深紫外半導体レーザの研究開発

研究課題

研究課題/領域番号 17106005
研究機関工学院大学

研究代表者

川西 英雄  工学院大学, 工学部, 教授 (70016658)

研究分担者 本田 徹  工学院大学, 工学部, 教授 (20251671)
坂本 哲夫  工学院大学, 工学部, 准教授 (20313067)
長谷川 文夫  工学院大学, 工学部, 教授 (70143170)
キーワード深紫外 / 半導体レーザ / 量子井戸 / 室化物半導体 / 超格子 / 光学異方性 / 発振モード
研究概要

平成19年度は、電流注入型AIGaN半導体レーザの実現に向けた研究を開始するための環境を整備したすなはち、電流注入型とするためには、AIGaNへのp型ドーピングの明らかにしなければならない。一方では、AIGaNの発光強度を改善できる手法として、「交互供給法」を我々は提案してきたが、本方法によって結晶の「何が」改善されているのかを解明しなければならなかった。
平成19年度には、後者に関しては、エピタキシャル結晶内の「点欠陥」が、交互供給法によって減少しているのではないか、その可能性を指摘した。また、前者に関してはは、AIGaNのp型ドーピングでは、我々の場合、刃状転位密度を更に減少しなければならないことをそのドーピング特性、P型化アニール特性、イオン化不純物濃度、キャリア密度等々、エピタキシャル結晶の電気的特性を測定することで解明した。更に、P型不純物であるMgが局在化し、ドーピング特性を大きく劣化させている可能性を示すSIMS解析結果も明らかになった。

  • 研究成果

    (5件)

すべて 2008 2007 その他

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Improvement of Crystal Quality of n-AIGaN by Alternate-Source-Feeding Metal Organic Vapor Phase Epitaxy2007

    • 著者名/発表者名
      Ken-ichi Isono
    • 雑誌名

      Japan.J.AppI.Phys 46

      ページ: 5711-5714

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reduction of Threading Dislocations in AIGaN/AIN/SiC Epitaxial Layers by Control led Strain with (AIN/GaN) Multibuffer-layer Structure2007

    • 著者名/発表者名
      Kouichi Murakawa
    • 雑誌名

      Japan.J.AppI.Phys 46

      ページ: 3301-3304

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Invesigation on Conductivity at the Gan/AIN/Sic Subsrate interface for Vertical Nitraide Power FETs

    • 著者名/発表者名
      Yuu Wakamiya
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi(to be published)

    • 査読あり
  • [学会発表] Experimental weak surface emission from (0001) c-lane AIGaN multiple quantum well structure in deep-ultaraviolet spectral region2008

    • 著者名/発表者名
      Hideo Kawanishi,
    • 学会等名
      Worksshops on Frontier Optoelectronic Materialsand Devices
    • 発表場所
      Hakone,Kanagawa,Japan
    • 年月日
      20080300
  • [備考]

    • URL

      http://www.ns.kogakuin.ac.jp/~wwc1048/

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公開日: 2010-02-04   更新日: 2016-04-21  

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