フェムト秒パルスラジオリシス法によるナノ時空間反応プロセスの解明

2008 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 17106014
• 研究種目: 基盤研究(S)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 原子力学
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 田川 精一 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (80011203)
• 研究分担者: 古澤 孝弘 大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (20251374) ; 関 修平 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (30273709) ; 佐伯 昭紀 大阪大学, 産業科学研究所, 助教 (10362625) ; 岡本 一将 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (10437353) ; 山本 洋揮 大阪大学, 産業科学研究所, 特任助教 (00516958)
• 研究期間 (年度): 2005 – 2008
• キーワード: フェムト秒パルスラジオリシス / ナノ時空間反応 / 量子ビーム / ナノテクノロジー

研究概要

本研究は量子ビームがナノ空間に誘起する化学反応を、エネルギー付与過程から中間活性種の初期空間分布と空間分布の時間変化を含め解明することにより、将来、ナノ空間に誘起される現象を、次世代リソグラフィやナノリソグラフィにおいて使いこなすための基礎過程を確立することを目的とした研究である

研究成果

• [雑誌論文] Formation of Intramolecular Poly(4-hydroxystyrene) Dimer Radical Cation (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Okamoto, T. Kozawa, K. Natsuda, S. Seki, and S. Tagawa
  • 雑誌名: J. Phys. Chem B 112 ページ: 9275-9280
  • 査読あり
• [雑誌論文] Stroboscopic picosecond pulse radiolysis using near-ultraviolet-enhanced femtosecond continuum generated by CaF2 (2007)
  • 著者名/発表者名: A. Saeki, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys 46 ページ: 407-411
  • 査読あり
• [雑誌論文] Subpicosecond pulse radiolysis in liquid methyl-substituted benzene derivatives, Radiat (2007)
  • 著者名/発表者名: K. Okamoto, T. Kozawa, A. Saeki, Y. Yoshida, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Phys. Chem 76 ページ: 818-826
  • 査読あり
• [雑誌論文] Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared (2007)
  • 著者名/発表者名: A. Saeki, T. Kozawa, Y. Ohnishi, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Reactivity between Biphenyl and Precursor of Solvated Electrons in Tetrahydrofuran Measured by Picosecond Pulse Radiolysis in Near-ultraviolet, Visible, and Infrared A 111 ページ: 1229-1235
  • 査読あり
• [雑誌論文] Protonation sites in chemically amplified resists for electron beam lithography Jpn (2006)
  • 著者名/発表者名: K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto and S. Tagawa
  • 雑誌名: J. Appl. Phys 45 ページ: L1256-L1258
  • 査読あり
• [雑誌論文] Resolution blur of latent acid image and acid generation efficiency of chemically amplified resists for electron beam lithography (2006)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa and S. Tagawa
  • 雑誌名: J. Appl. Phys 99 ページ: 054509
  • 査読あり
• [雑誌論文] Picosecond pulse radiolysis using femtosecond white light with a high S/N spectrum acquisition system in one beam shot, Nucl (2006)
  • 著者名/発表者名: A. Saeki, T. Kozawa, and S. Tagawa
  • 雑誌名: Instrum. Meth A 556 ページ: 391-396
  • 査読あり
• [雑誌論文] Proton and anion distribution and line edge roughness of chemically amplified electron beam resist (2005)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa, H. Yamamoto, A. Saeki, and S. Tagawa
  • 雑誌名: J. Vac. Sci. Technol B23 ページ: 2716-2720
  • 査読あり
• [学会発表] Sensitization mechanisms of chemically amplified resists and resist design for 22 nm node (2009)
  • 著者名/発表者名: T. Kozawa and S. Tagawa
  • 学会等名: 2009 International Workshop on EUV Lithography
  • 発表場所: Oahu, Hawaii, USA
  • 年月日: 20090713-17
• [学会発表] Study on acid generation of acid generators in chemically amplified resists for electron beam (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
  • 学会等名: International Workshop on Molecular Information and Dynamics 2008
  • 発表場所: Taipei, Taiwan
  • 年月日: 20081210-12
• [学会発表] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-Hydroxystyrene)and its Copolymer (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
  • 学会等名: 21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 20081027-30
• [学会発表] Horie, Effect of acid generator structure on its depth distribution in chemically amplified resist films (2008)
  • 著者名/発表者名: T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, and K
  • 学会等名: 21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 20081027-30
• [学会発表] Study on Reactivity of Halogenated Resist Polymer with Low-Energy Electrons (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Mimura, H. Yukawa, and J. Onodera
  • 学会等名: 21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 20081027-30
• [学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
  • 学会等名: 21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Fukuoka, Japan
  • 年月日: 20081027-30
• [学会発表] Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
  • 学会等名: 2nd Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry
  • 発表場所: Waseda University
  • 年月日: 20080829-0901
• [学会発表] Dependence of Acid Generation Efficiency on Molecular Structure and Concentration of Acid Generator in Chemically Amplified EUV Resist, SPIE Advanced Lithography (2008)
  • 著者名/発表者名: R. Hirose, T. Kozawa, S. Tagawa, T. Kai, and T. Shimokawa
  • 学会等名: San Jose
  • 発表場所: California, USA
  • 年月日: 20080225-0301
• [学会発表] Acid-base equilibrium in chemically amplified resist, SPIE Advanced Lithography (2008)
  • 著者名/発表者名: K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
  • 学会等名: San Jose
  • 発表場所: California, USA
  • 年月日: 20080225-0301