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2006 年度 実績報告書

高軒則性ナノ孔を有する有機-無機ハイブリッド超薄膜の創製

研究課題

研究課題/領域番号 17310049
研究機関首都大学東京

研究代表者

川上 浩良  首都大学東京, 公私立大学の部局等・助, 教授 (10221897)

研究分担者 朝山 章一郎  首都大学東京, 都市環境科学研究科, 助教 (90315755)
鈴木 嘉昭  独立行政法人理化学研究所, 先端技術開発支援センター, 先任研究員 (40342802)
キーワード有機-無機ハイブリッド / 超薄膜 / ナノ孔 / イオン照射 / プラズマ処理 / プラズマイオン注入法 / 表面改質
研究概要

高規則性ナノ孔径を有する多孔質膜は、超省エネルギー的な環境調和型かつ低負荷型の高効率な物質認識、物質分離を可能とする次世代型多孔質膜としてその創製が期待されている。無機材料からなる高規則性ナノ孔径多孔質膜の合成が精力的に進められているが、現状ではその孔径は十数ナノが限界であり、ナノ、サブナノ孔径の形成は難しく膜の強度や大面積化にも問題がある。
本研究では、従来多孔質膜の性能を凌駕する高透過能・高認識能を有する新規有機一無機ハイブリッド超薄膜の合成を試みる。
前年度選定された超薄膜スキン層を有する芳香族ポリイミド非対称膜表面にイオン照射(理化学研究所200kVイオン注入器)処理を行う。希ガス類を前年度同様イオン種(He^+,Ar^+,Ne^+,Kr^+,Xe^+)に選び、様々な注入条件(加速エネルギー、イオン照射量)で表面処理を行なう。作製したイオン照射、プラズマ処理された有機-無機ハイブリッド超薄膜の透過測定を行う。ハイブリッド超薄膜に対し先ず分子量の異なるPEGや多糖類での透過測定(供給圧力、温度の影響)を行ない膜性能を確認する。
さらに、従来法とは全く異なるPlasma-based ion implanatation法についても検討を行う。この方法はイオン照射とプラズマ処理を同時に行いことにより膜表面を改質する新しい方法で、先ずその処理条件を検討する。

  • 研究成果

    (1件)

すべて 2006

すべて 雑誌論文 (1件)

  • [雑誌論文] 高性能高分子ガス分離膜の設計と合成2006

    • 著者名/発表者名
      川上浩良
    • 雑誌名

      ケミカルエンジニアリング 51

      ページ: 266-271

URL: 

公開日: 2008-05-08   更新日: 2016-04-21  

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