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2005 年度 実績報告書

内殻励起を用いたサイト選択的解離の研究-分子ナイフへの応用を目指して-

研究課題

研究課題/領域番号 17550013
研究機関愛媛大学

研究代表者

長岡 伸一  愛媛大学, 理学部, 教授 (30164403)

研究分担者 間瀬 一彦  高エネルギー加速器研究機構, 物質構造科学研究所, 助教授 (40241244)
高橋 修  広島大学, 理学研究科, 助手 (60253051)
キーワード化学物理 / 原子・分子物理 / ナノ材料 / サイト選択 / 内殻 / 分子ナイフ
研究概要

我々は軟X線を分子のためのナイフとして用い、内殻励起後のサイト選択的解離に基づいて、分子から原子や原子団の切り取りを行うことを目的として研究を行った。軟X線励起の電子-イオン同時計数法、表面・凝縮相用の光電子-オージェ電子同時計数法などを用いて、周辺の環境が異なる2個のケイ素原子を含む分子(例えば、F_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3)やN_2Oなどの各種内殻励起後のサイト選択的解離の実験を行い、サイト選択性が明瞭に現れる条件を求め、実験結果をab initio分子軌道法などを用いて解釈することを試み、その結果に基づいて、内殻励起を分子のためのナイフとして用いる方法を追求している。
F_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3は、Si2p光イオン化によって気相でも凝縮相でも顕著なサイト選択的解離を示したが、Si1s光イオン化ではその選択性は減少した。また、N_2Oのようにサイトを直接結合させた分子ではサイト選択性は無視できる程度であった。
現在気相では、光電子(オージェ電子)-光イオン-光イオン三重同時計数法などを用いてF_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3のより詳細なサイト選択的解離過程の機構を研究している。また、凝縮相では、オージェ-光電子同時計数法を用いて、F_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3などのサイト選択的なオージェ過程を研究している。さらにF_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3のオージェ終状態の電子配置やサイト選択的オージェスペクトルをab initio分子軌道法などを用いて求め、気相や凝縮相の実験結果と比較している。そうした成果については来年度の報告書で述べる。

  • 研究成果

    (6件)

すべて 2005

すべて 雑誌論文 (6件)

  • [雑誌論文] Site-specific fragmentation caused by Si:1s core-level photoionization of F_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3 vapor2005

    • 著者名/発表者名
      S.Nagaoka et al.
    • 雑誌名

      Chemical Physics Letters 412・4-6

      ページ: 459-463

  • [雑誌論文] Ion desorption caused by N1s core-level photoexcitation of N_2O on Si(100) surface2005

    • 著者名/発表者名
      S.Nagaoka, K.Mase
    • 雑誌名

      Surface Science 593・1-3

      ページ: 276-272

  • [雑誌論文] Site-specific fragmentation caused by core-revel photoexcitation : Comparison between Si : ls and 2p photoexcitations in F_3SiCH_2CH_2Si(CH_3)_3 vapor2005

    • 著者名/発表者名
      S.Nagaoka et al.
    • 雑誌名

      International Journal of Mass Spectrometry 247・1-3

      ページ: 101-105

  • [雑誌論文] Studies of the X-ray absorption spectra of some methylcyano esters2005

    • 著者名/発表者名
      O.Takahashi et al.
    • 雑誌名

      Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena 142・2

      ページ: 113-119

  • [雑誌論文] Molecularly intact and dissociative adsorption of water on clean Cu(110) : A comparison with the water/Ru(001) system2005

    • 著者名/発表者名
      K.Andersson, O.Takahashi et al.
    • 雑誌名

      Surface Science 585・3

      ページ: L183-L189

  • [雑誌論文] Unimolecular decomposition of formic acid in the gas phase - On the ratio of the competing reaction channels2005

    • 著者名/発表者名
      K.Saito, O.Takahashi et al.
    • 雑誌名

      Journal of Physical Chemistry A 109(24)

      ページ: 5352-5357

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公開日: 2007-04-02   更新日: 2016-04-21  

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