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2005 年度 実績報告書

ナノチャネルにおける極性イオン多変量イメージング法と連動した電気二重層選択的制御

研究課題

研究課題/領域番号 17686017
研究機関慶應義塾大学

研究代表者

佐藤 洋平  慶應義塾大学, 理工学部, 助教授 (00344127)

キーワードナノスケール / 電気二重層 / ゼータ電位 / Gouy-Chapmanモデル / Debye-Huckel近似 / ナノLIF法 / 蛍光色素 / エバネッセント波
研究概要

近い将来,マイクロデバイスに代わってナノデバイスが普及してくるのは明らかであるが,ナノスケール特有の物理現象を解明しないことには,ナノテクノロジーの進展は望めない.通常,電解質に接する固体壁面は負に帯電するため,電解質中の陽イオンが界面近傍に引き寄せられ,厚さ数十〜百ナノメートルのイオン層,即ち,電気二重層を形成する.本研究では,電気二重層の影響が対向壁にまで及ぶナノチャネルを対象として,電気二重層の時空間構造の実験的解明を行い,電気二重層構造のみを制御することによる革新的なマイクロ・ナノ空間流動制御技術の確立を行う.本年度は,電気二重層厚さ,そして壁面ゼータ電位二次元分布時系列計測を可能とする,ナノ・レーザ誘起蛍光(Nanoscale laser induced fluorescence=ナノLIF)法の開発を行い,壁面ゼータ電位二次元分布の計測に世界で初めて成功した.レーザ光導入用プリズム及びレーザ光放出用可動プリズムを用いて,カバーガラス内で全反射を繰り返し,広視野にてエバネッセント光を照射するシステムの開発を行った.作動流体にイオン化する蛍光色素を混入し,カリウムイオン濃度を調節することにより,イオン濃度が異なる混合場を形成した.電気二重層厚さ,あるいは壁面ゼータ電位は,電気二重層付近に存在する蛍光色素からの蛍光強度と強い相関関係にあることから,CCDカメラにて撮像した蛍光強度分布から,二次元分布を求めた.流体の対流および拡散によるイオン挙動が,電気二重層形成に直接的に関わっていることが明らかとなった.

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2005

すべて 雑誌論文 (6件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Selective separation technique of specific protein using microfluidic device2005

    • 著者名/発表者名
      Saiki, K., Sato, Y.
    • 雑誌名

      19th International Symposium on Microscale Bioseparations

      ページ: 64

  • [雑誌論文] Electrokinetic migration of submicron particles in microchannel2005

    • 著者名/発表者名
      Kazoe, Y., Sato, Y.
    • 雑誌名

      19th International Symposium on Microscale Bioseparations

      ページ: 69

  • [雑誌論文] 界面動電現象を用いたタンパク質連続抽出技術に関する研究2005

    • 著者名/発表者名
      斉木康一郎, 佐藤洋平
    • 雑誌名

      第11回化学とマイクロ・ナノシステム研究会予稿集

      ページ: 36

  • [雑誌論文] マイクロPIVを用いたコロイド粒子ゼータ電位簡易計測法2005

    • 著者名/発表者名
      福村公基, 一柳満久, 嘉福裕, 斉木康一郎, 佐藤洋平
    • 雑誌名

      日本機械学会熱工学コンファレンス2005講演論文集

      ページ: 223-224

  • [雑誌論文] マイクロチャネル内イオン拡散による電気二重層時空間構造2005

    • 著者名/発表者名
      嘉福裕, 佐藤洋平
    • 雑誌名

      日本機械学会熱工学コンファレンス2005論文集

      ページ: 231-232

  • [雑誌論文] レーザ放射圧によるマイクロ空間選択的物質輸送技術2005

    • 著者名/発表者名
      斉木康一郎, 佐藤洋平
    • 雑誌名

      日本機械学会熱工学コンファレンス2005論文集

      ページ: 243-244

  • [産業財産権] 全反射試料照明装置及び照明方法2005

    • 発明者名
      佐藤洋平, 嘉福裕
    • 権利者名
      学校法人慶應義塾
    • 産業財産権番号
      特願2005-275626
    • 出願年月日
      2005-09-22

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公開日: 2007-04-02   更新日: 2016-04-21  

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