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2019 年度 実績報告書

マイクロLEDへの応用に向けたガラス基板上シリコン薄膜への窒化ガリウムの選択成長

研究課題

研究課題/領域番号 17F17366
研究機関名古屋大学

研究代表者

宇佐美 徳隆  名古屋大学, 工学研究科, 教授 (20262107)

研究分担者 HAINEY, JR. MEL  名古屋大学, 工学(系)研究科(研究院), 外国人特別研究員
研究期間 (年度) 2017-11-10 – 2020-03-31
キーワードアルミニウム誘起層交換成長 / シリコン / 窒化ガリウム
研究実績の概要

前年度に、アルミニウム誘起層交換成長法により作製するシリコン薄膜の結晶方位ゆらぎの新たな評価法とその制御因子についての知見を得た。
本年度は、前年度に得られた知見をベースとして、結晶方位ゆらぎの程度を系統的に変化させたシリコン薄膜をアルミニウム誘起層交換成長法により作製し、さらに窒化ガリウム薄膜を有機金属気相成長法により成長する実験に着手した。また、その高品質化メカニズムについて検討を進めた。窒化ガリウム薄膜の成長実験は、シリコン(111)単結晶基板上の成長に対して最適化された条件に固定して行った。窒化ガリウムの高品質化に有効な窒化アルミニウム緩衝層を導入している。
作製した窒化ガリウム薄膜に対し、エックス線回折の半値幅を指標として結晶性の評価を実施したところ、下地となるシリコン薄膜の結晶方位ゆらぎを抑制することにより、結晶性を大きく改善できることがわかった。具体的なプロセス条件としては、アルミニウム誘起層交換成長における熱処理温度と時間を、400℃程度の低温と20分程度の短時間とすることが重要であるとわかった。また、窒化ガリウム薄膜は、下地のシリコン薄膜多結晶と対応して配向した多結晶となっている。電子顕微鏡観察の結果から、各結晶粒の中心部に穴状の物理的な欠陥が存在することが明らかとなった。この欠陥は、シリコン薄膜の成長時において過剰な過飽和度により{111}配向しなかったシリコン結晶に起因しており、今後の改善が必要である。

現在までの達成度 (段落)

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2020 2019 その他

すべて 国際共同研究 (2件) 雑誌論文 (3件) (うち国際共著 1件、 査読あり 3件) 学会発表 (2件) (うち国際学会 2件)

  • [国際共同研究] University of California-Los Angeles(米国)

    • 国名
      米国
    • 外国機関名
      University of California-Los Angeles
  • [国際共同研究] University Clermont Auvergne(フランス)

    • 国名
      フランス
    • 外国機関名
      University Clermont Auvergne
  • [雑誌論文] Surface-orientation control of silicon thin films via aluminum-induced crystallization on monocrystalline cubic substrates2020

    • 著者名/発表者名
      Hainey Mel、Zhou Eddie (Chenhui)、Viguerie Loic、Usami Noritaka
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 533 ページ: 125441~125441

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2019.125441

    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Scalable fabrication of GaN on amorphous substrates via MOCVD on highly oriented silicon seed layers2020

    • 著者名/発表者名
      Hainey Mel、Robin Yoann、Avit Geoffrey、Amano Hiroshi、Usami Noritaka
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 535 ページ: 125522~125522

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2020.125522

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication of group IV semiconductor alloys on Si substrate applying Al paste with screen-printing2020

    • 著者名/発表者名
      Nakahara Masahiro、Matsubara Moeko、Suzuki Shota、Dhamrin Marwan、Miyamoto Satoru、Hainey Mel Forrest、Usami Noritaka
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 ページ: SGGF07~SGGF07

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab6e0b

    • 査読あり
  • [学会発表] Silicon Seed Layers Fabricated by Aluminum-induced Crystallization: Guidelines for Heteroepitaxy2019

    • 著者名/発表者名
      Mel Hainey, Jr., Yoann Robin, Geoffrey Avit, Loic Viguerie, Hiroshi Amano, Noritaka Usami
    • 学会等名
      Joint ISTDM / ICSI 2019 Conference
    • 国際学会
  • [学会発表] Aluminum-induced crystallization of Si(111) on highly mismatched crystalline substrates2019

    • 著者名/発表者名
      Mel Hainey, Jr., Takahisa Yamamoto, Eddie (Chenhui) Zhou, Loic Viguerie, Noritaka Usami
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 国際学会

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公開日: 2021-01-27  

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