デザイン保護法制の国際的調和-創作実態を踏まえた世界的なデザイン保護のあり方-

2020 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 17H01942
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: デザイン学
• 研究機関: 九州大学
• 研究代表者: 麻生 典 九州大学, 芸術工学研究院, 准教授 (20708416)
• 研究分担者: 齋藤 俊文 九州大学, 芸術工学研究院, 准教授 (00437766) ; 村田 健介 名古屋大学, 法学研究科, 准教授 (00551459) ; 渕川 和彦 大阪市立大学, 大学院法学研究科, 准教授 (00711227) ; 秋田 直繁 九州大学, 芸術工学研究院, 助教 (10708415) ; 伊藤 浩史 九州大学, 芸術工学研究院, 准教授 (20512627) ; 薮本 将典 慶應義塾大学, 法学部(三田), 准教授 (20566880) ; 藤 紀里子 九州大学, 芸術工学研究院, 助教 (30315155) ; Rademacher C 早稲田大学, 法学学術院, 准教授 (30609772) ; 知足 美加子 九州大学, 芸術工学研究院, 教授 (40284583) ; 高田 久実 武蔵野学院大学, 国際コミュニケーション学部, 准教授 (90739111) ; 中野 万葉子 西南学院大学, 法学部, 准教授 (10761447)
• 研究期間 (年度): 2017-04-01 – 2021-03-31
• キーワード: デザイン / デザイン評価 / 保護ニーズ / 国際的調和 / 意匠法改正

研究成果の概要

本研究はデザイン保護法制の国際的調和を目的とした。具体的には、国外でのカード配置法実験による認知科学的類似概念の明確化、各国におけるデザイン保護ニーズの調査、各国のデザイン保護法の最新状況の検討、デザイン保護に関わる個別具体的論点の検討、2019年に改正された日本の意匠法および2020年に公表された日本の意匠審査基準の検討とその内容についての海外との共有、それらを踏まえた意匠法の制度的検討を行なった。

自由記述の分野

デザイン　知的財産法

研究成果の学術的意義や社会的意義

現代においてはデザイン創作が多様化しており、その法的保護のあり方およびその国際的調和を検討することが重要である。本研究は、デザイン学と法学の観点からデザイン保護法制の国際的調和のために個別具体的論点・制度の検討を行なったという学術的・社会的意義がある。また、我が国が国際的調和に歩調を合わせるだけでなく、他国が我が国の制度を参考にしうる様に、最新の立法まで含めた我が国意匠法の解説を英語で提供した点に社会的意義がある。