研究課題
基盤研究(B)
EC-XPS,クロノアンペロメトリー等を用いてイオン液体中、カソード電位下における電極付近の金属イオンの拡散挙動について我々オリジナルのホッピング拡散モデルをベースに調べた。拡散を制御できる因子として、ホール濃度、イオン液体構造、溶液温度などがあることが分かり、これらが拡散挙動を支配するメカニズムについて明らかにした。また、ホール濃度を制御することによって、極性ドメインから非極性ドメインへ拡散移動パスが変化することを明らかにした。
物理化学
本研究成果によって、イオン液体中における金属イオン拡散の物理的描像より明確になり、定式化によって拡散係数に関する種々のパラメータが定量的に扱えることになったことの学術的な意義は非常に大きい。また、これによって、イオン液体を電解液として用いることの出来る多くの電気化学デバイスの設計指針がより明確になり、これまで解決が難しいと言われていた問題の解決糸口を与えるものである。こうした意味で本研究が社会に与える意義は大きいものと考える。
