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本研究では，金属二次元ナノ構造体をレーザー誘起前方転写法 (LIFT) により任意基板上に位置選択的に直接転写することを目的に研究を行った．透明基板上に形成した金属二次元構造体を対象に，横断面強度分布が一定のフェムト秒レーザーパルスを照射した．光吸収層がアブレーション反応のエネルギー閾値の低減に寄与する，二次元構造を対象としたLIFTにより異方性形状を反映した構造体の転写が可能である，金属物質を対象としたLIFTでは基板上から剥離された物質が，凝集・融合しながら対向する基板上に堆積する，フェムト秒レーザーの単パルス照射により光硬化性樹脂パターン上の金属を選択的に除去できることを明らかにした．
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