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スポットごとに照射時間を調節する手法に取り組んだ。照射するビーム強度は固定し、各スポットに必要な線量が照射されるまで照射し続けるという制御を行う。これまで取り組んでいたビーム強度を変調する手法と違う点は、ビームを走査させるためのスキャニングマグネットの制御装置の出力の時間分解能に制限があるため、離散化された照射時間しか設定できないことであるが、我々が用いるファンクションジェネレーターの出力分解能を考慮して、各スポットへの照射時間に対して時間分解能は照射パターンにも依存するが1%未満であるため、時間分解能による照射量の誤差は、ビーム電流の誤差などその他の要員で発生する誤差と比較して十分小さいと判断した。線量取得はガフクロクロミックフィルムを使用した。ターゲット内の線量分布は5%程度の均一度であった。この時の誤差はビーム電流の測定誤差及びフィルムの較正に伴う誤差によるものである。20%-80%線量点の間隔を表すペナンブラは、3 - 4 mmであった。この時の誤差は照射量を増やし、さらに線量を与えることで十分小さくすることができる。
以上の結果から、スパイラルビームスキャニングによって、ターゲットに対して均一な線量分布を形成するための簡易的な最適化手法を確立し、実際の照射試験でも制御することに成功した。呼吸性移動に追従する照射を行うための基礎ができたと言える。
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