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2019 年度 研究成果報告書

高強度レーザー光による分子のイオン化確率の角度依存性の計測法開発

研究課題

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研究課題/領域番号 17K05593
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 原子・分子・量子エレクトロニクス
研究機関東京大学

研究代表者

長谷川 宗良  東京大学, 大学院総合文化研究科, 准教授 (20373350)

研究期間 (年度) 2017-04-01 – 2020-03-31
キーワード高強度光 / 分子配列 / イオン化 / 角度依存性
研究成果の概要

本研究では,高強度レーザー光による分子のイオン化確率の角度依存性の計測法開発を行い,この手法に基づいた高強度レーザー光の電場と分子軸のなす角度に依存したイオン化確率の決定を行った。この方法を用いて,高強度光によりNO分子の回転波束を生成し,分子軸分布を時間発展させ,遅延時間ののちに第二の高強度光を照射しNO分子をイオン化する。生成した1価および2価親イオンの収量の遅延時間依存性からNO分子のイオン化確率の角度依存性を取り出すことができることを示した。また,3次高調波を用いて分子軸分布を計測する簡易な手法をN2分子に対して示した。

自由記述の分野

高強度光科学,分子分光学,物理化学

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究では,高強度レーザー光による分子のイオン化確率の角度依存性の計測法開発を行い,この手法に基づいた高強度レーザー光の電場と分子軸のなす角度に依存したイオン化確率の決定を行った。この方法を用いることにより,分子の向きによりイオン化の確率の変化を明瞭に観測することができる。この成果は,強い光と物質の相互作用の起源を深く理解し,極限的な環境下での分子の振る舞いを明らかしたものである。

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公開日: 2021-02-19  

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