| 研究課題/領域番号 |
17K06094
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
生産工学・加工学
|
|---|
| 研究機関 | 金沢工業大学 |
|---|
研究代表者 |
畝田 道雄 金沢工業大学, 工学部, 教授 (00298324)
|
|---|
| 研究分担者 |
佐野 泰久 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (40252598)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2021-03-31
|
| キーワード | SiC基板 / プラズマガス / ナノバブル / CMP / 高能率 / 表面改質 |
|---|
| 研究成果の概要 |
本研究ではSiC基板の高能率研磨法の開発を目的に，プラズマガスを内包したナノバブルをスラリーに添加（プラズマスラリー）するという，供給装置開発及びアシスト研磨手法の検証を実施した．具体的には，プラズマスラリーの効果をナノインデンテーション（NI）試験とX線光電子分光法（XPS）分析から検証した．その結果，NI試験を通じて，SiC基板におけるSi面の硬度低下が観察され，XPS分析では同Si面に反応生成物が作られることを確認した．さらには，一連の実験検証を通じて，汎用スラリーだけに留まらず，市販のSiC基板専用スラリーとも比較して，プラズマスラリーでは研磨能率の大幅向上を実現することに成功した．
|
| 自由記述の分野 |
精密工学，生産工学・加工学
|
| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究では低炭素社会を実現するために必須となる高効率パワーデバイスの開発に向けて，それに必要となるSiC基板の高能率研磨手法の開発に取り組んだものである．開発手法は特筆すべき装置を必要とせず，汎用の研磨装置へ適用可能なものであり，実用化を強く意識した内容である．その結果として，狙いとする高能率研磨の実現に成功するとともに，その原理（メカニズム）を明らかにしたことは，本研究における成果の信頼性向上（社会的意義）に加えて，学術的意義を明確にしたものであると言え，本研究の波及効果は極めて高いものと考えられる．
|
