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プラズマをベースにしたイオン材料プロセスにより機能性ハードコーティング材料を作製した。窒素プラズマ中の窒素イオンをダイヤモンドライクカーボン（DLC）薄膜へ注入させることでDLC薄膜に導電性を付加できることを検証した後、成膜と注入を交互に行った多層コーティングにより30 mΩ㎝の抵抗率を持つDLC膜を作製することができた。また、イオン注入システムと高電力パルススパッタシステムを組み合わせ、3～380 Ω㎝の抵抗率を持つ導電性シリコン含有DLC膜の作製も実現した。さらに、高電力パルススパッタで生成した金属イオンを用いたプロセスで、窒化ケイ素チタン膜、炭窒化チタン膜の高硬度化を実現した。
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