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2019 年度 実績報告書

炭素ホットイオン注入法を用いた二次元シリコンカーバイド及びグラフェンの基盤研究

研究課題

研究課題/領域番号 17K06359
研究機関神奈川大学

研究代表者

水野 智久  神奈川大学, 理学部, 教授 (60386810)

研究分担者 鮫島 俊之  東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (30271597)
研究期間 (年度) 2017-04-01 – 2020-03-31
キーワードSiC量子ドット / PL発光 / 量子閉じ込め効果 / Si酸化膜 / ホットイオン注入
研究実績の概要

令和元年度の研究業績はSiC量子ドットの実証である.
発光素子を目指した従来のSiCドットは,単結晶Si(c-Si)からアモルファスSi(a-Si)までのSi半導体基板へのCホットイオン注入法を用いて作製し,その大きなPL発光を実証してきた.しかし,バンドギャップEGの小さいSi層(EG=1.1eV)中の大きなEGを持つSiCドット(EG>2.4eV)は量子ドット(QD)ではないため,励起電子寿命が小さくPL発光効率が低下する.従って,SiC-QDを実現し,その励起電子の量子的閉じ込め効果によるPL発光効率の増大化が望まれる.
そこで,EGの大きなSi酸化膜(EG=9eV)へのSi/Cのダブルホットイオン注入とその後の高温N2アニール法による簡易なSiC-QD形成法を開発した.X線光電子分光法により酸化膜中においてもSi-C結合を確認でき,SiC形成を実証できた.また,電子顕微鏡観察から,酸化膜中に2nm程度の粒径のSiC-QDを1E12cm-2程度の密度で確認できた.立方晶及び六方晶のSiCポリタイプをも確認できた.更に,UV-Raman観測により,Si-C振動モードのTOバンド,酸化膜中に析出したC-C振動モードのT,及びDバンドを確認できた.
Si中SiCドットより数倍大きなPL発光をSiC-QDにおいて達成し,これはSiC-QDにおける励起電子の量子的閉じ込め効果による発光効率の増大に起因すると思われる.以上から,SiC-QDは発光素子構造として有望な構造と期待できる.
以上の研究成果を,国際学会における国際固体素子材料学会で1件,IEEE Silicon Nanoelectronics Workshopで1件の計2件,国内学会の応用物理学会において1件の学会発表を行った.更に,査読付き論文であるJpn. J. Appl.Phys.に2件,論文掲載された.

  • 研究成果

    (7件)

すべて 2020 2019

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (3件) (うち国際学会 2件)

  • [雑誌論文] SiC quantum dot formation in SiO2 layer using double hot-Si+/C+-ion implantation technique2020

    • 著者名/発表者名
      Mizuno Tomohisa、Kanazawa Rikito、Aoki Takashi、Sameshima Toshiyuki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 ページ: SGGH02-1~12

    • DOI

      https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab5bc4

    • 査読あり
  • [雑誌論文] SiC nano-dot formation in bulk-Si substrate using hot-C+-ion implantation process2019

    • 著者名/発表者名
      Mizuno Tomohisa、Yamamoto Masaki、Nakada Shinji、Irie Sho、Aoki Takashi、Sameshima Toshiyuki
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 ページ: 081004~081004

    • DOI

      https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab2ac9

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Si Surface Orientation Dependence of SiC Nano-Dot Formation in Hot-C+-Ion Implanted Bulk-Si Substrate2019

    • 著者名/発表者名
      T. Mizuno, M. Yamamoto, T. Aoki, T. Sameshima
    • 雑誌名

      Abst. IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop

      巻: - ページ: 115-116

    • 査読あり
  • [雑誌論文] SiC Quantum Dots in Si-Oxide Layer Fabricated by Double Hot-Si+/C+-Ion Implantation Technique2019

    • 著者名/発表者名
      T. Mizuno, R. Kanazawa, T. Aoki, and T. Sameshima
    • 雑誌名

      Extended Abst. of Solid State Devices and Materials

      巻: - ページ: 887-888

    • 査読あり
  • [学会発表] Si Surface Orientation Dependence of SiC Nano-Dot Formation in Hot-C+-Ion Implanted Bulk-Si Substrate2019

    • 著者名/発表者名
      T. Mizuno, M. Yamamoto, T. Aoki, T. Sameshima
    • 学会等名
      IEEE Silicon Nanoelectronics Workshop
    • 国際学会
  • [学会発表] SiC Quantum Dots in Si-Oxide Layer Fabricated by Double Hot-Si+/C+-Ion Implantation Technique2019

    • 著者名/発表者名
      T. Mizuno, R. Kanazawa, T. Aoki, and T. Sameshima
    • 学会等名
      International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 国際学会
  • [学会発表] ホット-ダブルSi+/C+イオン注入法を用いた酸化膜中のSiC量子ドットの形成2019

    • 著者名/発表者名
      金澤力斗, 青木孝,鮫島俊之,水野智久
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋季学術講演会

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公開日: 2021-01-27  

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