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2020 年度 実績報告書

胎盤絨毛細胞合胞体化の分子細胞生物学的機序の解明:妊娠高血圧症候群発症病態の解明

研究課題

研究課題/領域番号 17K11238
研究機関広島大学

研究代表者

工藤 美樹  広島大学, 医系科学研究科(医), 教授 (80241082)

研究分担者 古宇 家正  広島大学, 病院(医), 講師 (10794779)
研究期間 (年度) 2017-04-01 – 2021-03-31
キーワード胎盤 / トロフォブラスト / IDO / 妊娠高血圧症候群 / 癒着胎盤
研究実績の概要

トロフォブラストの浸潤に関する研究
1)トリプトファン代謝経路のうちキヌレニン経路の第一段階を触媒する酵素であるindoleamine 2,3-dioxygenase(IDO)の母体-胎児境界部位での発現動態を解析し、その機能の解明を試みた。
2)IDOには二つのアイソフォ-ムが同定されている(IDO-1、IDO-2)。この二つのアイソフォ-ムの母体-胎児境界部位における発現動態を免疫組織化学染色法により解析した。その結果、IDO-1は脱落膜の腺上皮、絨毛組織内の胎児の血管内皮およびマクロファ-ジに発現が認められた。IDO-2はシンシチオトロフォブラストに発現していた。IFN-γはIDO-1の遺伝子およびタンパクレベルでの発現を促進したが、このIFN-γの効果はIDO-1に特異的でIDO-2に対しては認められなかった。
3)母体-胎児境界部位におけるIDOの二つのアイソフォ-ムの発現部位およびIFN-γへの反応性が異なることは、それぞれのアイソフォ-ムが正常妊娠御維持において特異的な役割を果たしていることが考えられる。すなわち、IDOの発現により局所でのトリプトファン濃度が低下し免疫細胞による拒絶反応を抑制したり、トロフォブラストの脱落膜組織および筋層内への浸潤が制御され、正常な胎盤形成が起こると考えられる。
4)癒着胎盤の母体-胎児境界部位においては、脱落膜組織のIDO-1の発現が認められず、トロフォブラストの浸潤は子宮筋層内にまで及んでおり、このことが癒着胎盤の発症病態のひとつである可能性が示唆された。

  • 研究成果

    (4件)

すべて 2020

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (1件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Indoleamine 2,3-dioxygenasea and trophoblast invasion in caesarean scar pregnancy: Implications for the aetiopathogenesis of placenta accreta spectrum2020

    • 著者名/発表者名
      Kudo, Y., Koh, I., Yamazaki, T., Oomori, Y., Mukai, Y. and Sugimoto, J.
    • 雑誌名

      J. Reprod. Immunol.

      巻: 138 ページ: 103009

    • DOI

      10.1016/j.jri.2020.103099

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Localization of indoleamine 2,3-dioxygenasea-1 and indoleamine 2,3-dioxygenasea-2 at the human maternal-fetal interface2020

    • 著者名/発表者名
      Kudo, Y., Koh, I. and Sugimoto, J.
    • 雑誌名

      Int. J. Tryptophan Res.

      巻: 13 ページ: 1-8

    • DOI

      10.1177/1178646920984163

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [学会発表] O2 responses suggest a central role for suppressyn in trophoblast cell fusion2020

    • 著者名/発表者名
      Jun Sugimoto, Yoshiki Kudo
    • 学会等名
      第72回日本産科婦人科学会
  • [図書] Fetal Morph Functional Diagnosis: Mendelian Disease2020

    • 著者名/発表者名
      Yoshiki Kudo
    • 総ページ数
      354
    • 出版者
      Springer
    • ISBN
      978-981-15-8170-0

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公開日: 2021-12-27  

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