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2019 年度 研究成果報告書

ナノギャップNEMSを利用した高耐久エレクトロニクス素子基盤技術の開発

研究課題

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研究課題/領域番号 17K14100
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 ナノマイクロシステム
研究機関千葉工業大学

研究代表者

菅 洋志  千葉工業大学, 工学部, 准教授 (60513801)

研究期間 (年度) 2017-04-01 – 2020-03-31
キーワードNEMS / 抵抗変化素子 / ナノギャップ / ナノエレクトロニクス / 記憶素子 / フラーレン / ナノ電極 / 記憶素子
研究成果の概要

2元素ナノギャップNEMS構造を検討し,素子作製およびその評価を行った.従来のナノギャップ素子はリーク電流を伴い、不揮発性記憶素子としての機能を喪失するのに対して,新たに開発した2元素ナノギャップNEMSは,高温環境における原子拡散抑制機能により,リーク電流を抑制し,900°C超の温度環境でも不揮発性記憶素子としての機能を維持した.また,金属内包炭素系ナノ材料からなる2元素NEMS素子を創成した。金属内包フラーレン分子を自己組織化により細線形状にする手法を応用して,平面デバイスを製作し,その特性を評価した.また,機能機構解明のため,透過型電子顕微鏡観察用素子作製技術や結晶制御技術を確立した.

自由記述の分野

ナノマイクロシステム

研究成果の学術的意義や社会的意義

2元素からなるナノギャップNEMSにより,900°C環境におけるリーク電流防止機構機能を実現した.高温環境でも機能喪失しない電子デバイスの創成に道を拓いた.また,自己組織化技術を応用して,金属元素を内包する炭素系ナノ材料を用いた2元素NEMS平面素子を製作し,その抵抗スイッチ特性を確かめ,Nano Material Electrical Systemへの道を拓いた.NEMS素子評価のための透過型電子顕微鏡観察実験のための試料加工技術や結晶制御技術など確立した.

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公開日: 2021-02-19  

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