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無尽蔵のエネルギー源である太陽光を活用した太陽光発電は、今後もその重要性が増加すると考えられる。本研究では、シリコン膜厚を10～20μm級へと大幅に薄型化しつつも、高い効率を得るための基盤を築くことを目指した。光の波長オーダの周期構造を有するフォトニック結晶の大面積共振作用の活用を検討し、遺伝的アルゴリズムを用いた構造最適化等を行うことで、700-1100nmの波長域で高い光吸収が得られ、厚さ～20μmでJph=39.1mA/cm2という高い光吸収電流が期待できることを解析的に示すことに成功した。また、薄膜素子の作製法、電極形状・材料等の検討を行い、～17%以上の効率が期待できることを示した。
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