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結晶シリコン太陽電池は、高効率で安定であることから広く用いられている。さらなる高効率化や低コスト化には薄膜化が必須で従来の技術では実現が困難であった。そこで、シリコンナノ粒子を用いて薄膜化を行った。また、ホットプレス法により膜の高品質化の手法を開発した。ホットプレス前は、シート抵抗は2.05MΩ/sqであったが、プレス後に抵抗が減少し、0.55MΩ/sqまで低減したした。そこで、イントリンジック層をシリコンナノ粒子で作製し、p型とn型の層をアモルファスシリコンでpin型太陽電池構造を作製した。光起電力を確認し、開放電圧155mVが得られた。
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