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ペロブスカイトの単結晶を粉砕して作製した単結晶の微粒子を高温加熱式機械プレス装置によってプレスして、ペロブスカイト結晶が溶融して凝集した厚さ400ミクロンほどの半透明なフィルムを成形した。このフィルムに金属電極を蒸着して平板素子を作製し、素子にエネルギーが20eVから50eV のX線を照射し、素子の外部回路電圧として5～20Vを印加してX線照射応答電流を検出した。その結果、5nA 以上の安定な応答を得ることに成功し、素子の応答は印加電圧とともに増加し、また、素子の温度を下げるほどバックグラウンドの電流が抑制されることが判明し、結果として高いS/N比で、X線応答が得られることを検証した。
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