| 研究課題/領域番号 |
17KK0125
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| 研究種目 |
国際共同研究加速基金(国際共同研究強化)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 日本大学 (2023)
東北大学 (2017-2022) |
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研究代表者 |
小川 修一 日本大学, 生産工学部, 准教授 (00579203)
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| 研究期間 (年度) |
2018 – 2023
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| キーワード | 熱酸化 / リアルタイム光電子分光 / グラフェン / 二次元層状物質 |
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| 研究成果の概要 |
ケイ素ウェハ酸化反応の自己停止現象を用いて、酸化膜で囲まれたシリセン(ケイ素の原子1層分の薄膜)を作製することを目的に、熱酸化反応機構の詳細なメカニズムを調べた。またシリセンと同様の単原子層状物質であるグラフェン被覆による材料の電子物性変化も調べた。その結果、酸化反応にはケイ素ウェハ中の少数キャリアの役割が重要であることがわかった。光照射や加熱等によるキャリア密度増加が自己停止反応の阻害要因になることを明らかにした。
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| 自由記述の分野 |
薄膜・表界面物性
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
本研究によりケイ素ウェハ酸化過程の自己停止条件をより詳しく明らかにすることができた。また渡航先で知り合った研究者との共同研究により、デバイス作製に必要な電子物性解明の研究を進めることができ、電気電子工学だけでなく応用化学や原子力工学への展開も見えてきた。本研究の成果により安全なエネルギーの生成方法の開発や、触媒・材料の長寿命化を見据えた応用研究につながっていくことが期待される。
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