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2007 年度 実績報告書

第一原理量子論によるナノデバイス材料・界面の物性予測

研究課題

研究課題/領域番号 18063003
研究機関筑波大学

研究代表者

白石 賢二  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 教授 (20334039)

研究分担者 押山 淳  東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (80143361)
BOERO Mauro  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (40361315)
岡田 晋  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (70302388)
中山 隆史  千葉大学, 理学部, 教授 (70189075)
山内 淳  慶応義塾大学, 理工学部, 講師 (90383984)
キーワード界面 / 新材料 / 理論 / ナノ物性 / 半導体 / MOSトランジスタ / 量子効果 / 炭素ナノチューブ
研究概要

1.ナノキャパシタンスの量子効果
ポストスケーリング半導体テクノロジーにおいては、ナノ構造での物理量の同定が極めて重要である。中でもキャパシタンスはその一例である。我々は18年度に明らかにしたゲートオールアラウンド型のナノキャパシタンスに加え、フロントゲート型のナノキャパシタンスの計算を第一原理量子論によって行った。その結果、フロントゲート型においてもゲートオールアラウンド型と同様に、ナノキャパシタンスが大きなバイアス依存性を持つことを明らかにした。
2.ナノ界面でのショットキーバリア
19年度はショットキー障壁高さの絶対的極限とこれまで信じられてきた、「ショットキー極限」と「バーディーン極限」の再検討を行った。その結果、Metal Induced Gap State(MIGS)の染み込みが小さいときには、界面の原子構造とそれに由来する選択的界面軌道混成がショットキー障壁高さを支配するため、原理的には「ショットキー極限」も「バーディーン極限」も本当の極限ではないことを理論的に明らかにした。さらに、実験グループと共同で「ショットキー極限の破綻」を実証した。
3.歪みチャネル層における原子空孔
18年度は2軸性の歪みを受けたGeチャネル層におけるGe原子空孔の電子構造の計算を行ったが19年度は1軸性の圧縮歪みがGe原子空孔に与える効果を検討した。その結果、一軸性の圧縮歪みを印加した場合、Ge単原子空孔はアクセプター準位を作りうることを明らかにした。

  • 研究成果

    (16件)

すべて 2008 2007

すべて 雑誌論文 (10件) (うち査読あり 10件) 学会発表 (6件)

  • [雑誌論文] Ge vacancies at Ge/Si interfaces: Stress-enhanced pairing dist ortion2008

    • 著者名/発表者名
      K., Takai・K., Shiraishi・A., Oshiyama
    • 雑誌名

      PHYSICAL REVIEW B 77

      ページ: Art.No.045308

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Quantum effects in a double-walled carbon nanotube capacitor2007

    • 著者名/発表者名
      K., Uchida・S., Okada・K., Shiraishi・A., Oshiyama
    • 雑誌名

      PHYSICAL REVIEW B 76

      ページ: Art.No.155436

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Suppression of oxygen vacancy formation in Hf-based high-k dielectrics by lanthanum incorporation2007

    • 著者名/発表者名
      N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Sugino, et. al.
    • 雑誌名

      APPLIED PHYSICS LETTERS 91

      ページ: Art.No.132904

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Quantum effects in a cylindrical carbon-nanotube capacito2007

    • 著者名/発表者名
      K., Uchida・S., Okada・K., Shiraishi・A., Oshiyama
    • 雑誌名

      JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER 19

      ページ: Art.No.365218

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Hafnium 4f core-level shifts caused by nitrogen incorporation in Hf-based high-k gate dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Miyazaki, et. al.
    • 雑誌名

      JAPANEST JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 46

      ページ: 3507-3509

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Guiding principle of energy level controllability of silicon dangling bonds in HfSiON2007

    • 著者名/発表者名
      N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Miyazaki, et. al.
    • 雑誌名

      JAPANEST JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 46

      ページ: 1891-1894

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Physical origin of stress-induced leakage currents in ultra-thin silicon dioxide films2007

    • 著者名/発表者名
      T., ・Endoh・K., Hirose・K., Shiraishi
    • 雑誌名

      IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS E90C

      ページ: 955-961

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Role of nitrogen atoms in reduction of electron charge traps in Hf-based high-k dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      N., Umezawa・K., Shiraishi・K., Torii, et. al.
    • 雑誌名

      IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 28

      ページ: 363-365

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effective-Mass Anormalies of Strained Silicon Thin Films:Surface and Confinement Effects2007

    • 著者名/発表者名
      J., Yamauchi・S., Matsuno
    • 雑誌名

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 46

      ページ: 3273-3276

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effective-Mass Anormalies in Strained Si Thin Films and Crystals2007

    • 著者名/発表者名
      J., Yamauchi
    • 雑誌名

      IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS; 29

      ページ: 186-1886

    • 査読あり
  • [学会発表] Characteristic Nature of High-K Dielectric Interfaces2008

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      IEEE EDS WIMNACT 2008 on NANOELECRONICS
    • 発表場所
      Sikkim, India
    • 年月日
      20080306-08
  • [学会発表] Interface Properties of Hf-Based High-K Gate Dielectrics -O Vacancies and Interface Reaction2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      14th International Workshop on the Physics of Semicon ductor Devices
    • 発表場所
      Mumbai, India
    • 年月日
      20071216-20
  • [学会発表] Theoretical Studies on Fermi Level Pining of Hf-Based High-K Gate Stacks Based on Thermodynamics2007

    • 著者名/発表者名
      K., Shiraishi・Y., Akasaka・G., Nakamura・T., Nakayama・S., Miyazaki・H., Watanabe・A., Ohta・K., Ohmori・T., Chikyow・Y., Nara・K., Yamada
    • 学会等名
      212th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Washington D. C., USA
    • 年月日
      20071007-12
  • [学会発表] Schottky barrier and stability of metal/high-k interfaces; theoretical view2007

    • 著者名/発表者名
      T. Nakayama
    • 学会等名
      Int. Conf. Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Tsukuba, Japan.
    • 年月日
      20070919-21
  • [学会発表] How can first principles calculations give large contributions to industries?2007

    • 著者名/発表者名
      K., Shiraishi
    • 学会等名
      ISSP International Workshiop/Symposium on Foundation and Application of Density Functional Theory
    • 発表場所
      Kashiwa, Japan
    • 年月日
      20070801-03
  • [学会発表] Theoretical Studies on Metal/.High-k Gate Stacks2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, Y. Akasaka, G. Nakamura, T. Nakayama, S.Miyazaki, H.Watanabe, A.Ohta, K. Ohmori, T. Chikyow, Y. Nara, K.Yamabe, and K. Yamada
    • 学会等名
      211th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Chicago, USA
    • 年月日
      200705-7-10

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公開日: 2010-02-04   更新日: 2016-04-21  

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