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2009 年度 研究成果報告書

第一原理量子論によるナノデバイス材料・界面の物性予測

研究課題

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研究課題/領域番号 18063003
研究種目

特定領域研究

配分区分補助金
審査区分 理工系
研究機関筑波大学

研究代表者

白石 賢二  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 教授 (20334039)

研究分担者 押山 淳  東京大学, 工学系研究科, 教授 (80143361)
村口 正和  東北大学, 学際科学国際高等研究センター, 教育研究補助者 (90386623)
岡田 晋  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (70302388)
山内 淳  慶応義塾大学, 理工学部, 講師 (90383984)
中山 隆史  千葉大学, 理学部, 教授 (70189075)
BOERO Mauro  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (40361315)
野村 晋太郎  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (90271527)
連携研究者 遠藤 哲郎  東北大学, 学際科学国際高等研究センター, 教授 (00271990)
研究期間 (年度) 2006 – 2009
キーワード第一原理計算 / 理論 / ナノ界面 / 新材料
研究概要

4年間の研究において、(1)次元の異なるナノ構造間のトンネル現象の新しい物理描像の開拓、(2)書き込み/消去耐性が強いMONOS型メモリの設計指針の提案、(3)グラフェンを用いた電子構造の理論設計、(4)ナノキャパシタンスの量子効果の解明、(5)ショットキー障壁極限の破綻の理論的予言とその実験的検証、(6)シリコンナノ構造における有効質量の異常、(7)歪みチャネル層における原子空孔が電気伝導に与える影響、等多くののブレークスルーにつながる研究成果を得ることができた。

  • 研究成果

    (43件)

すべて 2010 2009 2008 2007 2006

すべて 雑誌論文 (19件) (うち査読あり 19件) 学会発表 (24件)

  • [雑誌論文]2010

    • 著者名/発表者名
      Y. Sakurai, J-I Iwata, M. Muraguchi, Y. Shigeta, Y. Takada, S. Nomura, T. Endoh, S. Saito, K. Shiraishi, M. Ikeda, K. Makihara, S. Miyazaki
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: 014001

    • 査読あり
  • [雑誌論文] A massively-parallel electronic-structure calculations based on real-space density functional theory2010

    • 著者名/発表者名
      J-I, Iwata, D. Takahashi, A. Oshiyama, T. Boku, K. Shiraishi, S. Okada, K. Yabana
    • 雑誌名

      J. Comp. Phys. 229

      ページ: 2339-2363

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Theoretical studies on the charge trap mechanism of MONOS type memories - Relationship between atomistic information and program/erase actions2009

    • 著者名/発表者名
      A. Otake, K. Yamaguchi, K. Kobayashi, K. Shiraishi
    • 雑誌名

      Microelectronic. Eng. 86

      ページ: 1849-1851

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Significant Change in Electronic Structures of Heme Upon Reduction by Strong Coulomb Repulsion between Fe d Electrons2009

    • 著者名/発表者名
      K. Kamiya, S. Yamamoto, K. Shiraishi, A. Oshiyama
    • 雑誌名

      J. Phys. Chem. B 113

      ページ: 6866-6872

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Transient current behavior through molecular bridge systems; effects of intra-molecule current on quantum relaxation and oscillation2009

    • 著者名/発表者名
      Y. Tomita, T. Nakayama, H. Ishii
    • 雑誌名

      e-J. Surf. Sci. Nanotech. 7

      ページ: 606-616

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Stability and Schottky barrier of silicides: First-principles study2009

    • 著者名/発表者名
      T. Nakayama, S. Sotome, S. Shinji
    • 雑誌名

      Microelectronic Eng. 86

      ページ: 1718-1721

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effective Mass Anomalies in Strained Si Thin Films and Crystals2008

    • 著者名/発表者名
      J. Yamauchi
    • 雑誌名

      IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 29

      ページ: 186-188

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Quantum cascade multi-electron injection into Si-quantum-dot floating gates embedded in SiO2 matrices2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Takada, M. Muraguchi, K. Shiraishi
    • 雑誌名

      Appl. Surf. Sci. 254

      ページ: 6199-6202

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Theoretical study of the time-dependent phenomena on a two-dimensional electron gas weakly coupled with a discrete level2008

    • 著者名/発表者名
      M. Muraguchi, Y. Takada, S. Nomura, K. Shiraishi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 47

      ページ: 7807-7811

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Energetics of nanoscale graphene ribbons: Edge geometries and electronic structures2008

    • 著者名/発表者名
      S. Okada
    • 雑誌名

      Phys. Rev. B 77

      ページ: 041408(R)

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Energetics of Carbon Peapods; Radial deformation of nanotubes and aggregation of encapsulated C602008

    • 著者名/発表者名
      S. Okada
    • 雑誌名

      Phys. Rev. B 77

      ページ: 235419

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 金属/絶縁体界面の物理:ショットキーバリアと原子間混晶化2007

    • 著者名/発表者名
      中山隆史、白石賢二
    • 雑誌名

      表面科学 28

      ページ: 28-33

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Quantum effects in a double-walled carbon nanotube capacitor2007

    • 著者名/発表者名
      K. Uchida, S. Okada, K. Shiraishi, A. Oshiyama
    • 雑誌名

      PHYSICAL REVIEW B 76(15)

      ページ: 155436

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effective-Mass Anormalies of Strained Silicon Thin Films: Surface and Confinement Effects2007

    • 著者名/発表者名
      J. Yamauchi, S. Matsuno
    • 雑誌名

      JAPANEASE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIER COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46

      ページ: 3273-3276

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Modified Oxygen Vacancy Induced Fermi Level Pinning Model Extendable to P-Metal Pinning2006

    • 著者名/発表者名
      Y. Akasaka, G. Nakamura, K. Shiraishi, N. Umezawa, K. Yamabe, O. Ogawa, M. Lee, T. Amiaka, T. Kasuya, H. Watanabe, T. Chikyow, F. Ootsuka, Y. Nara, K. Nakamura
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      ページ: L1289-L1292

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Oxygen-vacancy-induced threshold voltage shifts in Hf-related high-k gate stacks2006

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, K. Yamada, K. Torii, Y. Akasaka, K. Nakajima, M. Konno, T. Chikyow, H. Kitajima, T. Arikado, Y. Nara
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 508

      ページ: 305-310

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Ferromagnetic Spin Ordering on Carbon Nanotubes with Topological Line Defects2006

    • 著者名/発表者名
      S. Okada, K. Nakada, K. Kuwabara, K. Daigoku, T. Kawai
    • 雑誌名

      Phys. Rev. B 74

      ページ: 121412

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Nano-scale view of atom intermixing at metal/semiconductor interfaces2006

    • 著者名/発表者名
      T. Nakayama, S. Itaya, D. Murayama
    • 雑誌名

      J. Phys. Conf. Ser. 38

      ページ: 216-219

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Thermal annihilation process of stacking-fault tetrahedron defect in Si-film epitaxy2006

    • 著者名/発表者名
      R. Kobayashi, T. Nakayama
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 508

      ページ: 29-32

    • 査読あり
  • [学会発表] Atomistic Studies for MONOS-Type Charge Trap Memories -A Theoretical Guiding Principles for High Program/Erase Endurance-2009

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, K. Yamaguchi, A. Otake, K. Kobayashi
    • 学会等名
      The 15th International Workshop on the Physics of Semiconductor Devices
    • 発表場所
      New Delhi, India
    • 年月日
      20091215-20091219
  • [学会発表] Universal Guiding Principles for Charge-Trap Memories with High Program/Erase Cycle Endurance2009

    • 著者名/発表者名
      K. Yamaguchi, A. Otake, K. Kobayashi, K. Shiraishi
    • 学会等名
      2009 IEEE Electron Devices Meeting
    • 発表場所
      Baltimore, USA
    • 年月日
      20091207-20091209
  • [学会発表] Physics for Si nanowire FET and its fabrication2009

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      PICE International Symposium on Silicon Nano Devices in 2030: Prospects by World's Leading Scientists
    • 発表場所
      Tokyo, Japan.
    • 年月日
      20091013-20091014
  • [学会発表] Physics of Nano-Interfaces and Nano-Structures for Future Si Nano-Devices2009

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      216th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Vienna, Austria
    • 年月日
      20091004-20091009
  • [学会発表] Physics of Nano-contact between Si Quantum Dots and Inversion Layer2009

    • 著者名/発表者名
      S. Nomura, Y. Sakurai, Y. Takada, K. Shiraishi, M. Muraguchi, T. Endoh, M. Ikeda, K. Makihara, S. Miyazaki
    • 学会等名
      216th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Vienna, Austria
    • 年月日
      20091004-20091009
  • [学会発表] Physics of Nano-Interfaces and Nano-Structures for Future Si Nano-Devices2009

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      10th I10th International Conference on Atomically Cotrolled Surfaces, Interfaces and Nanostructures
    • 発表場所
      Granada, Spain
    • 年月日
      20090921-20090915
  • [学会発表] Theoretical models for work function control2009

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      16th biannual conference of Insulating Films on Semiconductors
    • 発表場所
      Cambridge, UK
    • 年月日
      20090629-20090701
  • [学会発表] Guiding Principles toward Future Gate Stacks Given by the Construction of New Physical Concepts2009

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      2009 Symposium on VLSI Technologies
    • 発表場所
      Kyoto, Japan
    • 年月日
      20090615-20090617
  • [学会発表] Theoretical investigations on metal/high-k interfaces2008

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi. T. Nakayama, S. Miyazaki, A. Ohta, Y. Akasaka, H. Watanabe, Y. Nara, K. Yamada
    • 学会等名
      2008 International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology
    • 発表場所
      Beijing, China
    • 年月日
      20081020-20081023
  • [学会発表] Theoretical Investigation of Metal/Dielectric Interfaces -Breakdown of Schottky Barrier Limits-2008

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, T. Nakayama, T. Nakaoka, A. Ohta, S. Miyazaki
    • 学会等名
      214th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Pheonix, AZ., USA
    • 年月日
      20080518-20080523
  • [学会発表] Physics of Schottky barrier at Metal/high-k Interfaces2008

    • 著者名/発表者名
      T. Nakayama, R. Ayuda, H. Nii, K. Shiraishi
    • 学会等名
      2008 MRS Spring Meeting
    • 発表場所
      San Francisco, USA(invited)
    • 年月日
      20080324-20080328
  • [学会発表] Characteristic Nature of High-k Dielectric Interfaces2008

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      IEEE EDS WIMNACT 2008 on NANOELECRONICS
    • 発表場所
      Sikkim, India
    • 年月日
      20080306-20080308
  • [学会発表] Interface Properties of Hf-Based High-k Gate Dielectrics -O Vacancies and Interface Reaction-2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      14th International Workshop on the Physics of Semiconductor Devices
    • 発表場所
      Mumbai, India
    • 年月日
      20071216-20071220
  • [学会発表] Schottky barrier and stability of metal/high-k interfaces; theoretical view2007

    • 著者名/発表者名
      T. Nakayama
    • 学会等名
      Int. Conf. Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Tsukuba, Japan
    • 年月日
      20070919-20070921
  • [学会発表] Theoretical Studies on Fermi Level Pining of Hf-Based High-k Gate Stacks Based on Thermodynamics2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, Y. Akasaka, G. Nakamura, M. Kadoshima, H. Watanabe, K. Ohmori, T. Chikyow, K. Yamabe, Y. Nara, Y. Ohji, K. Yamada
    • 学会等名
      212th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Washington D.C., USA
    • 年月日
      20070907-20070912
  • [学会発表] How can first principles calculations give large contributions to industries?2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi
    • 学会等名
      ISSP International Workshop/ Symposium on Foundation and Application of Density Functional Theory
    • 発表場所
      Kashiwa, Japan
    • 年月日
      20070801-20070803
  • [学会発表] Theoretical Studies on Metal/. High-k Gate Stacks2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, Y. Akasaka, G. Nakamura, T. Nakayama, S. Miyazaki, H. Watanabe, A. Ohta, K. Ohmori, T. Chikyow, Y. Nara, K. Yamabe, K. Yamada
    • 学会等名
      211th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Chicago, USA
    • 年月日
      20070507-20070510
  • [学会発表] Carbon Nanotube and its Hybrid Structures2007

    • 著者名/発表者名
      A. Oshiyama
    • 学会等名
      2nd Int. Symposium on Nanometer-Scale Quantum Physics (nanoPHYS07)
    • 発表場所
      Tokyo
    • 年月日
      20070124-20070126
  • [学会発表] Recent Progress in Understanding the Mechanism of Shottoky Barrier Height Formation at Various Interfaces2007

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, T. Nakayama, S. Okada, S. Miyazaki, H. Watanabe, Y. Akasaka, T. Chikyow, Y. Nara, K. Yamada
    • 学会等名
      International Symposium on Theories of Organic-Metal Interfaces 2007
    • 発表場所
      Suita, Osaka, Japan
    • 年月日
      20070115-20070117
  • [学会発表] What Happen at High-k Dielectric Interfaces?2006

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, T. Nakayama, Y. Akasaka, H. Takeuchi, S. Miyazaki, N. Umezawa, G. Nakamura, A. Ohta, T. Nakaoka, H. Watanabe, K. Yamabe, K. Ohmori, P. Ahmet, T. Chikyow, Y. Nara, H. Iwai, K. Yamada
    • 学会等名
      37th IEEE Semiconductor Interface Specialist Conference
    • 発表場所
      San Diego, CA, USA
    • 年月日
      20061207-20061209
  • [学会発表] Atomic and Electronic Structures of Carbon nanotubes on Si and Metal Surfaces2006

    • 著者名/発表者名
      A. Oshiyama
    • 学会等名
      9th Asian Workshop on First-Principles Electronic-Structure Calculations
    • 発表場所
      Seoul, KOREA
    • 年月日
      20061106-20061108
  • [学会発表] Physics of Metal/High-k Interfaces2006

    • 著者名/発表者名
      T. Nakayama, K. Shiraishi, S. Miyazaki, Y. Akasaka, K. Torii, P. Ahmet, K. Ohmori, N. Umezawa, H. Watanabe, T. Chikyow, Y. Nara, H. Iwai, K. Yamada
    • 学会等名
      Fourth International Symposium on High Dielectric Constant Gate Stacks at the 210th Meeting of Electrochemical Society
    • 発表場所
      Cancun, Mexico
    • 年月日
      20061029-20061103
  • [学会発表] Physics of interfaces between gate electrodes and high-k dielectrics2006

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, H. Takeuchi, Y. Akasaka, T. Nakayama, S. Miyazaki, T. Nakaoka, A. Ohta, H. Watanabe, N. Umezawa, K. Ohmori, P. Ahmet, K. Toii, T. Chikyow, Y. Nara, T-J. King Liu, H. Iwai, K. Yamada
    • 学会等名
      8th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology
    • 発表場所
      Shanghai, China
    • 年月日
      20061023-20061026
  • [学会発表] Theory of Fermi Level Pinning of High-k Dielectrics2006

    • 著者名/発表者名
      K. Shiraishi, H. Takeuchi, Y. Akasaka, H. Watanabe, N. Umezawa, T. Chikyow, Y. Nara, T. -J. King Liu, K. Yamada
    • 学会等名
      2006 International Conference on Simulation of Semiconductor Process and Devices
    • 発表場所
      Monterey, CA, USA
    • 年月日
      20060906-20060908

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公開日: 2011-06-18   更新日: 2021-04-07  

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