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2009 年度 研究成果報告書

ナノスケールデバイスにおける界面物性揺らぎと雑音

研究課題

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研究課題/領域番号 18063016
研究種目

特定領域研究

配分区分補助金
審査区分 理工系
研究機関島根大学

研究代表者

土屋 敏章  島根大学, 総合理工学部, 教授 (20304248)

連携研究者 櫻庭 政夫  東北大学, 電気通信研究所, 准教授 (30271993)
最上 徹  , (株)半導体先端テクノロジーズ
研究協力者 竹廣 忍  東北大学, 電気通信研究所, 助手
三島 誠史  島根大学, 総合理工学研究科, 博士前期課程
吉田 啓一  島根大学, 総合理工学研究科, 博士前期課程
森 祐樹  島根大学, 総合理工学研究科, 博士前期課程
森村 由太  島根大学, 総合理工学研究科, 博士前期課程
研究期間 (年度) 2006 – 2009
キーワードマイクロ・ナノデバイス / 半導体超微細化 / 電子デバイス・機器 / 表面・界面物性
研究概要

MOSFETのチャージポンピング特性に,ゲートパルスのオン時間に関連した過渡現象を見出し,それを利用してMOS界面準位1個1個を検出して評価する界面物性揺らぎの究極的とも言える評価手法を考案した.この手法を用いて,ナノスケールMOSFETにおける界面準位の数とキャリア捕獲率揺らぎの直接観測に成功した.これらの成果は,MOSデバイスの雑音研究に新たな展開をもたらし,RTN機構解明にも大きな前進を与えると期待される.

  • 研究成果

    (20件)

すべて 2010 2009 2008 2007 2006 その他

すべて 雑誌論文 (7件) 学会発表 (12件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] ナノスケールMOSデバイスにおける界面物性の揺らぎ-界面トラップ1個1個を検出して評価する-2009

    • 著者名/発表者名
      土屋敏章
    • 雑誌名

      応用物理 第78巻,第9号

      ページ: 868-872

  • [雑誌論文] High Ge fraction intrinsic SiGe-heterochannel MOSFETs with embedded SiGe source/drain electrode formed by in-situ doped selective CVD epitaxial growth2008

    • 著者名/発表者名
      S. Takehiro, M. Sakuraba, T. Tsuchiya, J. Murota
    • 雑誌名

      Thin Solid Films vol.517,no.1

      ページ: 346-349

  • [雑誌論文] Hot carrier degradation of a SiGe/Si hetero-interface and experimental estimation of the density of locally-generated hetero-interface traps2007

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, S. Mishima, M. Sakuraba, J. Murota
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. vol.46,no.8A

      ページ: 5015-5020

  • [雑誌論文] BドープSiGe選択CVD成長により形成された極浅ソース・ドレインと高Ge比率歪SiGeヘテロチャネルを有する高性能pMOSFET2006

    • 著者名/発表者名
      竹廣忍, 櫻庭政夫, 室田淳一, 土屋敏章
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C, IEEJ Trans. EIS. vol.126,no.9

      ページ: 1079-1082

  • [雑誌論文] SiGe/SiヘテロMOSFETにおけるホットキャリアによるヘテロ界面準位の発生2006

    • 著者名/発表者名
      土屋敏章, 櫻庭政夫, 室田淳一
    • 雑誌名

      電気学会論文誌C, IEEJ Trans. EIS. vol.126,no.9

      ページ: 1101-1106

  • [雑誌論文] Characterization of Hot-Carrier Degraded SiGe/Si-Hetero-PMOSFETs2006

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, M. Sakuraba, J. Murota
    • 雑誌名

      Thin Solid Films Vol.508,Issues1-2

      ページ: 326-328

  • [雑誌論文] Direct Observation of Fluctuations in the Number and Individual Electronic Properties of Interface Traps in Nanoscale Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, Y. Mori, Y. Morimura, T. Mogami, Y. Ohji
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. (印刷中)

  • [学会発表] Fluctuation in Electronic Properties of Interface Traps in Nano-MOSFETs2010

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, Y. Mori, Y. Morimura, T. Mogami
    • 学会等名
      4th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      20100129-20100130
  • [学会発表] Direct Observation of Fluctuations in Both the Number and Individual Carrier Capture Rate of Interface Traps in Small Gate-Area MOSFETs2009

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, Y. Mori, Y. Morimura, T. Mogami, Y. Ohji
    • 学会等名
      Proc. of the 39th European Solid-State Device Research Conference
    • 発表場所
      Athens, Greece
    • 年月日
      20090914-20090918
  • [学会発表] Capture/Emission Process of Carriers in Interface Traps Observed in the Transient Charge-Pumping Characteristics of MOSFETs2008

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, K. Yoshida, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      39th IEEE Semiconductor Interface Specialist Conference (SISC 2008)
    • 発表場所
      San Diego, USA
    • 年月日
      20081211-20081213
  • [学会発表] Transient Charge-Pumping Characteristics Related to Heterointerface Traps in SiGe/Si-Hetero-Channel pMOSFETs2008

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, K. Yoshida, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      4th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      20080925-20080927
  • [学会発表] Transient Charge-Pumping Characteristics Related to Heterointerface Traps in SiGe/Si-Hetero-Channel pMOSFETs2008

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, K. Yoshida, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      4th International SiGe Technology and Device Meeting
    • 発表場所
      Hsinchu, Taiwan
    • 年月日
      20080511-20080514
  • [学会発表] Instability of a SiGe/Si-hetero-interface in hetero-channel MOSFETs due to Joule heating2007

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      3rd International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • 発表場所
      Sendai
    • 年月日
      20071108-20071109
  • [学会発表] High Ge fraction intrinsic SiGe-heterochannel MOSFETs with embedded SiGe source/drain electrode formed by in-situ doped selective CVD epitaxial growth2007

    • 著者名/発表者名
      S. Takehiro, M. Sakuraba, T. Tsuchiya, J. Murota
    • 学会等名
      5th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-5)
    • 発表場所
      Marseille, France
    • 年月日
      20070520-20070525
  • [学会発表] Reliability and instability of a SiGe/Si-hetero-interface in hetero-channel MOSFETs2007

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      5th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-5)
    • 発表場所
      Marseille, France
    • 年月日
      20070520-20070525
  • [学会発表] The Instability of the SiGe/Si-Hetero-Interface in Hetero-MOSFETs due to Bias Stress2006

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, S. Mishima, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      37th IEEE Semiconductor Interface Specialist Conference (SISC 2006)
    • 発表場所
      San Diego, USA
    • 年月日
      20061207-20061209
  • [学会発表] Fabrication of Sub-100-nm Gate-Length SiGe-Heterochannel MOSFETs with In-Situ Doped Selectively Epitaxial SiGe Sourcs/Drain2006

    • 著者名/発表者名
      S. Takehiro, S. Kawada, M. Sakuraba, T. Tsuchiya, J. Murota
    • 学会等名
      2nd Int. Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      20061002-20061003
  • [学会発表] Hot-Carrier-Degradation of Hetero-Interface in SiGe/Si-Hetero-MOSFETs2006

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      2nd Int. Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics
    • 発表場所
      Sendai, Japan
    • 年月日
      20061002-20061003
  • [学会発表] Quantitative Evaluation of Interface Traps in a Nanometer-Thick SiGe/Si Heterostructure in Hetero MOS Devices2006

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, M. Sakuraba, J. Murota
    • 学会等名
      2006 Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices (AWAD2006)
    • 発表場所
      Tohoku Univ., Sendai, Japan
    • 年月日
      20060703-20060705
  • [備考]

    • URL

      http://www.ecs.shimane-u.ac.jp/~tsuchiya/

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公開日: 2011-06-18   更新日: 2016-04-21  

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