2008 年度自己評価報告書

放射光X線マイクロプローブによるナノデバイス材料・界面の物性評価

研究課題

研究課題/領域番号	18063019
研究種目	特定領域研究
配分区分	補助金
審査区分	理工系
研究機関	財団法人高輝度光科学研究センター
研究代表者	木村滋財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門・ナノテクノロジー利用研究推進グループ, グループリーダー・副主席研究員 (50360821)
研究期間 (年度)	2006 – 2009
キーワード	結晶工学 / 表面・界面物性 / マイクロX線回折 / シンクロトロン放射光
研究概要	放射光X線マイクロプローブ技術を利用して、ポストスケーリングテクノロジーでの利用が期待されるナノデバイス材料・界面の物性評価を行う。具体的には、ビーム集光技術、高精度試料位置決め技術、試料測定位置モニタリング技術等の要素技術の高度化を行い、各種ナノデバイス材料・界面の微小領域に存在する歪や構造の評価を行う。また、特定領域内での連携研究を積極的に推進し、次世代ナノデバイス開発での新材料・新構造導入の問題点を物性面から解明し、早期の問題解決に貢献する。