放射光X線マイクロプローブによるナノデバイス材料・界面の物性評価

2009 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 18063019
• 研究種目: 特定領域研究
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 理工系
• 研究機関: 財団法人高輝度光科学研究センター
• 研究代表者: 木村 滋 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 副主席研究員 (50360821)
• 研究分担者: 坂田 修身 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (40215629) ; 田尻 寛男 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (70360831) ; 今井 康彦 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (30416375)
• 研究期間 (年度): 2006 – 2009
• キーワード: 結晶工学 / 表面・界面物性 / マイクロX線回折 / シンクロトロン放射光

研究概要

半導体集積回路の基本素子である金属-絶縁膜-半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)の技術開発において、これまでの技術の延命では達成困難な超高集積度、高性能・高機能性を追求し、実現するためには、デバイス中の各パーツの結晶構造や応力分布を解析し、最適な構造にすることが必要不可欠になってきている。そこで、SPring-8の高輝度放射光を用いたマイクロプローブX線技術を発展させ、ナノデバイス材料・界面のナノメーターレベルの微小領域に存在する歪や構造の評価を可能にする高分解能マイクロX線回折システムを開発した。

研究成果

• [雑誌論文] High-Angular-Resolution Microbeam X-ray diffraction with CCD Detector (2010)
  • 著者名/発表者名: Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, A. Sakai
  • 雑誌名: AIP Conference Proceedings Vol.1221 ページ: 30-32
  • 査読あり
• [雑誌論文] Monolithic Self-Sustaining Nanographene Sheet Grown Using Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (2010)
  • 著者名/発表者名: W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, S. Kimura, O. Sakata, H. Tajiri, M. Hori
  • 雑誌名: Physica Status Solidi A Vol.207 ページ: 139-143
  • 査読あり
• [雑誌論文] Structural change of direct silicon bonding substrates by interfacial oxide out-diffusion annealing (2010)
  • 著者名/発表者名: T. Kato, Y. Nakamura, J. Kikkawa, A. Sakai, E. Toyoda, K. Izunome, O. Nakatsuka, S. Zaima, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata
  • 雑誌名: Thin Solid Films Vol.518 ページ: S147-S150
  • 査読あり
• [雑誌論文] Microstructures in directly bonded Si substrates (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Ohara, T. Ueda, A. Sakai, O. Nakatsuka, M. Ogawa, S. Zaima, E. Toyoda, H. Isogai, T. Senda, K. Izunome, H. Tajiri, O. Sakata, S. Kimura, T. Sakata, H. Mori
  • 雑誌名: Solid-State Electronics Vol.53 ページ: 837-840
  • 査読あり
• [雑誌論文] Characterization of strained Si wafers by X-ray diffraction techniques (2008)
  • 著者名/発表者名: T. Shimura, K. Kawamura, M. Asakawa, H. Watanabe, K. Yasutake, A. Ogura, K. Fukuda, O. Sakata, S. Kimura, H. Edo, S. Iida, M. Umeno
  • 雑誌名: Journal of Materials Science: Materials in Electronics Vol.19 ページ: S189-S193
  • 査読あり
• [学会発表] CCD型検出器を用いた高角度分解能マイクロx線回折計 (2010)
  • 著者名/発表者名: 今井康彦, 木村滋, 坂田修身, 田尻寛男, 酒井朗, 小瀬村大亮, 小椋厚志
  • 学会等名: 第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • 発表場所: イーグレ姫路
  • 年月日: 2010-01-08
• [学会発表] High-Angular-Resolution Microbeam X-ray diffraction with CCD Detector (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, A. Sakai
  • 学会等名: 20th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
  • 発表場所: Karlsruhe, Germany
  • 年月日: 20090914-20090918
• [学会発表] Nanometer-scale charac-terization technique using synchrotron radiation microdiffraction (2009)
  • 著者名/発表者名: S. Kimura
  • 学会等名: Japan-Taiwan Joint Symposium on New Functional Materials and Their Nano-Scale Analysis
  • 発表場所: Kyoto, Japan
  • 年月日: 2009-11-25
• [学会発表] SPring-8でのシリコンナノエレクトロニクス研究の現状 (2009)
  • 著者名/発表者名: 木村滋
  • 学会等名: 第55回応用物理学関係連合講演会シンポジウム「シリコン系材料・プロセス評価の最前線-放射光利用による新展開」
  • 発表場所: 日本大学船橋キャンパス
  • 年月日: 2009-03-29
• [学会発表] 高分解能マイクロx線回折装置の現状と応用研究 (2009)
  • 著者名/発表者名: 今井康彦、木村滋、坂田修身、田尻寛男
  • 学会等名: 第22回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • 年月日: 2009-01-12
• [図書] 「第3版現代界面コロイド化学の基礎」, "放射光を利用した表面x線構造解析", 9章 (2009)
  • 著者名/発表者名: 木村滋、坂田修身
  • 総ページ数: 417-720
  • 出版者: 丸善
• [図書] 「機能物質・材料開発と放射光-SPring-8の産業利用-」, "放射光マイクロx線回折法によるひずみ緩和SiGeバッファー層の評価", 第9章 (2008)
  • 著者名/発表者名: 木村滋、竹田晋吾、酒井朗
  • 総ページ数: 87-95
  • 出版者: シーエムシー出版
• [備考]
  • URL: http://www.spring8.or.jp/ja/memberdata/04124