研究課題
特定領域研究
絶縁層に比誘電率の大きなアルミナを用いたマイクロストリップ線路を設計・作製し、マイクロストリップ線路の線路幅と負荷Q値の関係を調べ、負荷Q値は100程度で線路幅の減少とともに緩やかに減少することがわかった。有機溶媒を用いた非水めっき法によるNb薄膜の堆積に関する研究を行い、NbCl_5とTCMClを含むACN溶液を液体窒素冷却により精製しためっき浴から連続な金属光沢のある薄膜が得られることを見出した。この薄膜のX線回折パターンはNb(110)に対応するピークが存在し、室温における非水めっき法によりNb金属薄膜の堆積の可能性が示唆された。
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http://www.yoshilab.dnj.ynu.ac.jp/tokutei/