研究課題
基盤研究(A)
次世代の高性能パワーデバイスとして期待されるSiCパワーMOSFETの特性を極限まで向上させるため、多層pn接合の多次元空乏化を利用する超接合構造に着目した。イオン注入や埋め込み成長により形成したpn接合特性の解析、MOS界面特性の向上、高精度デバイスシミュレーションによる構造設計や微細加工技術を集約して、耐圧1580V、オン抵抗40mΩcm2という優れた性能を達成した。この特性はSiデバイスの理論限界より20倍優れている。
すべて 2009 2008 2007 2006 その他
すべて 雑誌論文 (10件) (うち査読あり 10件) 学会発表 (10件) 図書 (3件) 備考 (1件)
Appl. Phys. Express 1
ページ: 101403 1-3
J. Appl. Phys 103
ページ: 013510 1-7
Jpn. J. Appl. Phys 47
ページ: 5352-5354
Phys. Stat. Sol.(b) 245
ページ: 1327-1336
IEEE Transaction on electron Devices 55
ページ: 2054-2060
ページ: 1841-1846
Appl. Phys. Lett 90
ページ: 202109 1-3
J. Appl. Phys 101
ページ: 103704 1-5
J. Appl. Phys 107
ページ: 103716 1-4
J. Crystal Growth 304
ページ: 57-63
http://semicon.kuee.kyoto-u.ac.jp/