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2008 年度 実績報告書

環境調和型電子デバイス配線接合界面形成機構解析とその最適化

研究課題

研究課題/領域番号 18206076
研究機関大阪大学

研究代表者

高橋 康夫  大阪大学, 先端科学イノベーションセンター, 教授 (80144434)

研究分担者 野城 清  大阪大学, 接合科学研究所, 教授 (40029335)
前田 将克  大阪大学, 先端科学イノベーションセンター, 助教 (00263327)
松坂 壮太  千葉大学, 大学院・工学研究科, 助教 (30334171)
キーワード環境調和 / パワーデバイス / インターコネクション / 化合物半導体 / 炭化珪素 / 窒化ガリウム / 配線接合 / 反応拡散
研究概要

ハイブリッドカーの駆動制御,風力発電制御に将来適用されると期待されている化合物半導体,炭化珪素(SiC),窒化ガリウム(GaN)の電極形成(インターコネクション形成)と,その周りの電気配線に適用される太線(アルミ太線ワイヤ,アルミリボン及び銅リード)実装の機構解析を行った.
SiCインターコネクション形成に関しては,蒸着膜を形成しただけで熱処理なしにp型SiCに対してオーミック特性を発現する新たなコンタクト膜とその形成方法を開発することに成功した.このコンタクト膜は高周波マグネトロンスパッタ蒸着法により形成されたTi-Si-C三元系単一層薄膜で,アモルファス構造を有する.熱処理することによりさらにコンタクト抵抗が低減する膜組成と,逆にオーミック特性が失われる膜組成が存在することも明らかとなった.
GaNインターコネクション形成に関しては,Ti-Si-C三元系膜蒸着後に熱処理を施すことにより非常に優れた特性を示す低抵抗オーミックコンタクトを形成することに成功した.また,GaNとTiの界面反応ではTi中のNの拡散が非常に早いため,TiN形成の潜伏期間が非常に長い.この問題を解決するためにGaNとTi蒸着膜の間にC膜を薄く形成する方法を新たに開発し,TiN形成を促進できることを実証した.
配線接合実装に関しては,Cu電極とCu配線材の間に非常に薄いSn膜を介在させることで外部加熱なしに超音波配線接合できることを明らかにした.また,軟質Alリボンの超音波接合を実施し,ワイヤボンディングの場合と異なり,荷重方向へのリボン材の変形が超音波印加を開始した早い段階で飽和する一方,凝着面積はリボン材の変形が進まなくなった後も拡大を続けることが明らかになった.

  • 研究成果

    (16件)

すべて 2009 2008

すべて 雑誌論文 (6件) (うち査読あり 6件) 学会発表 (7件) 産業財産権 (3件) (うち外国 1件)

  • [雑誌論文] Early Stage of Solid State Interfacial Reaction between Copper and Tin2009

    • 著者名/発表者名
      M. Maeda, N. Inoue, T. Sato, Y. Takahashi
    • 雑誌名

      Defect and Diffusion Forum 283-286

      ページ: 323-328

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Heatless Ultrasonic Bonding of Copper-foil with Tin Electroplated Copper Substrate2009

    • 著者名/発表者名
      N. Inoue, T. Sato, M. Maeda, Y. Takahashi
    • 雑誌名

      Proc. 15th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) 15

      ページ: 367-370

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Ultrasonic Bonding of Copper Foils Using Deposition Films of Tin2009

    • 著者名/発表者名
      T. Sato, N. Inoue, M. Maeda, Y. Takahashi
    • 雑誌名

      Proc. 15th Symposium on Microjoining and Assembly Technology in Electronics (Mate2008) 15

      ページ: 375-378

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Ultrasonic bonding of Zr_<55>Cu_<30>Ni_5Al_<10> metallic glass2008

    • 著者名/発表者名
      M. Maeda, Y. Takahashi, M. Fukuhara, X. Wang, A. Inoue
    • 雑誌名

      Materials Science and Engineering B 148

      ページ: 141-144

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Interfacial Microstructures of Zr_<55>Cu_<30>Ni_5Al_<10> Metallic Glass Joints Formed by Ultrasonic Bonding2008

    • 著者名/発表者名
      M. Maeda, K. Akagi, Y. Takahashi
    • 雑誌名

      Smart Processing Technology 2

      ページ: 239-242

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 固相凝着接合現象2008

    • 著者名/発表者名
      高橋康夫
    • 雑誌名

      BRAZE 42

      ページ: 36-43

    • 査読あり
  • [学会発表] Relation between Vibration of Wedge-Tool and Adhesion of Wire to Substrate during Ultrasonic Bonding2008

    • 著者名/発表者名
      M. Maeda, K. Yamane, S. Matsusaka, Y. Takahashi
    • 学会等名
      8th Welding Symposium
    • 発表場所
      京都国際会館
    • 年月日
      2008-11-17
  • [学会発表] Reaction between GaN and Metallic Deposition Film2008

    • 著者名/発表者名
      N. Matsumoto, H. Hatagawa, M. Maeda, Y. Takahasi
    • 学会等名
      8th Welding Symposium
    • 発表場所
      京都国際会館
    • 年月日
      2008-11-17
  • [学会発表] Low Temperature Solid State Bonding of Cu and Sn for Electronic Packaging2008

    • 著者名/発表者名
      T. Sato, N. Inoue, M. Maeda, Y. Takahashi
    • 学会等名
      8th Welding Symposium
    • 発表場所
      京都国際会館
    • 年月日
      2008-11-17
  • [学会発表] In-situ Observation of Ultrasonic Aluminum Wire Bonding2008

    • 著者名/発表者名
      H. Kitamura, Y. Yoneshima, M. Maeda, Y. Takahashi
    • 学会等名
      8th Welding Symposium
    • 発表場所
      京都国際会館
    • 年月日
      2008-11-17
  • [学会発表] 窒化ガリウム単結晶と金属膜の界面組織2008

    • 著者名/発表者名
      前田将克, 高橋康夫, 畑川裕生
    • 学会等名
      溶接学会秋季全国大会講演会
    • 発表場所
      北九州国際会議場
    • 年月日
      2008-09-12
  • [学会発表] Interfacial Structure between Gallium Nitride and Metallic Deposition Films2008

    • 著者名/発表者名
      M. Maeda, H. Hatakawa, Y. Takahashi
    • 学会等名
      6th International Materials Technology Conference & Exhibition
    • 発表場所
      Kuala Lumpur, Malaysia
    • 年月日
      2008-08-27
  • [学会発表] Formation of Ti_3SiC_2 on SiC by Control of Interfacial Reaction between SiC and Ti / Al Multilayer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Maeda, Y. Takahashi
    • 学会等名
      4th JWS-KWJS Young Researcher Symposium
    • 発表場所
      大阪市
    • 年月日
      2008-04-09
  • [産業財産権] オーミック電極およびその形成方法2009

    • 発明者名
      高橋康夫, 他4名
    • 権利者名
      高橋康夫, 他4名
    • 産業財産権番号
      特願2009-020850
    • 出願年月日
      2009-01-30
  • [産業財産権] 超音波接合方法及び超音波接合体2008

    • 発明者名
      高橋康夫, 他5名
    • 権利者名
      高橋康夫, 他5名
    • 産業財産権番号
      特願2008-200955
    • 出願年月日
      2008-08-04
  • [産業財産権] P型4H-SiC基板上のオーミック電極の形成方法2008

    • 発明者名
      高橋康夫, 他4名
    • 権利者名
      高橋康夫, 他4名
    • 産業財産権番号
      PCT/JP2008/055158
    • 出願年月日
      2008-03-13
    • 外国

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公開日: 2010-06-11   更新日: 2016-04-21  

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