研究課題
フォトクロミック・ジアリールエテン(DAE)の示すMg蒸着選択性を有機エレクトロニクスに応用するに当たって、この方式で得られたMg膜からの有機層への電子注入特性を改善することが必要である。DAE膜上に直接Mg膜を形成した場合、電子注入が大幅に阻害されるが、DAEとMgの間に電子注入層として薄いAlq3層を形成することにより蒸着選択性を保ったまま電子注入特性が改善される。膜厚については、Alq3層が10nm以下で且つDAE層よりもAlq3層が薄い場合に、電子注入特性と蒸着選択性が両立することが判明した。このとき、着色DAE膜上のAlq3層は薄い均一な膜が保持されているのに対して、消色膜上ではAlq3が凝集してアイランド上となり、下地のDAEが露出したためにMgの非堆積現象が発生していることを解明した。さらにこの薄い中間層を介した蒸着選択性は、Alq3のみならず、NPBやAgなど多種の薄膜に対しても成立することが示され、様々なキャリア注入層に対しても応用可能であることが示唆された。この現象を応用して、典型的なAlq3層を発光層とする有機ELデバイスの陰極パターンを行ったところ、100ミクロン幅の陰極パターニングのマスクレス形成と、それに対応したEL発光を実証することができた。微細Mgパターンニングの解像度としては、レーザーの走査条件やパワーを調整することで、数ミクロン程度が得られた。またこの方式で形成したグレーティング素子によるレーザーの回折効果も確認することができた。
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