研究課題/領域番号 |
18350114
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
高分子・繊維材料
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研究機関 | 長岡技術科学大学 |
研究代表者 |
塩見 友雄 長岡技術科学大学, 工学部, 教授 (10134967)
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研究分担者 |
竹中 克彦 長岡技術科学大学, 工学部, 准教授 (30188205)
竹下 宏樹 長岡技術科学大学, 工学部, 助教 (80313568)
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研究期間 (年度) |
2006 – 2008
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キーワード | 液晶化 / ミクロ相分離 / 階層構造 / 相構造 / ブロック共重合体 / ポリマーアロイ / ナノ材料 / 小角X線散乱 |
研究概要 |
液晶性-非晶性および液晶性-液晶性ブロック共重合体において、液晶化過程におけるミクロ相分離構造の変化・維持、ミクロ相分離構造と液晶構造の関係およびミクロ相分離内での液晶の配向様式を、主としてシンクロトロン放射光を用いた時分割小角X線散乱法により解析し、ミクロ相分離と液晶化の相関によって生じる階層構造とその形成過程を明らかにした。
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