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2007 年度 実績報告書

窒化ガリウムナノ細線を用いた化学センサとその集積化センサチップへの展開

研究課題

研究課題/領域番号 18360002
研究機関北海道大学

研究代表者

長谷川 英機  北海道大学, 名誉教授 (60001781)

研究分担者 赤澤 正道  北海道大学, 量子集積エレクトロニクス研究センター, 准教授 (30212400)
池辺 将之  北海道大学, 大学院・情報科学研究科, 准教授 (20374613)
キーワード水素センサ / 溶液センサ / 窒化物半導体 / ショットキダイオード / センサネットワーク / 集積回路 / 2分決定論理 / ナノ細線
研究概要

本研究では、高感度・高機能・超微細の化学センサを、独自の表面制御により、AlGaN/GaNナノ細線上に実現し、ヘキサゴナル2分決定グラフ(BDD)回路方式と組み合わせて、オンチップ集積により、超低消費電力集積化センサチップを実現する基礎研究を行う。本年度は次の(1)-(4)の成果を得るとともに、予想していなかった重要なポイント(2),(3)を発見し、その解明のため、研究期間をさらに6ヶ月繰り越し延長することとした。
(1)酸素ゲッタリングを施したAlGaN/GaNウェハ上に、Pdショットキ電極をもつ水素ガスセンサのセンシング機構として、原子状水素によるショットキ界面ダイポールの形成によるショットキ障壁の現象を昨年度提案したが、詳細な検討で、I-V特性から求められる障壁高変化と、C-V特性から求められる障壁高変化が一致しないことを見出した。そして、この理論上の矛盾点を、独自のTSB(thin surface barrier)モデルで説明することに成功した。
(2)実用的には、高温下での水素検知が実用上極めて重要となる。この点に関して、通常材料では、高温で、ショットキ障壁のリーク電流の増加により、検知特性が悪化するのに対し、本Pd/AlGaN/GaN水素ガスセンサでは、逆に検知特性が向上するという有望な結果を得た。この機構の解明と性能最適化には、さらなる検討が必要である。
(3)水素センサにおいてバイアス条件により、動作理論からは説明できない非常に遅い過渡応答不安定性を見出した。これは、水素センサのみならず、AlGaN/GaN溶液センサの信頼性にかかわる重要なものである。これは窒化ガリウム電子デバイスの「電流コラプス」に関連している可能性が示され、さらに詳細な検討が必須である。
(4)ナノ細線センサヘッドをブリッジ方式で、AlGaN/GaNヘテロ接合トランジスタBDD回路へ接続したアナログ・ディジタル混在型センサ情報処理回路について、その実現可能性を確認した。

  • 研究成果

    (21件)

すべて 2008 2007

すべて 雑誌論文 (10件) (うち査読あり 10件) 学会発表 (11件)

  • [雑誌論文] Mechanism and Control of Current Transport in GaN and AlGaN Schottky Barriers for Chemical Sensor Applications2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science 254

      ページ: 3653-3666

    • 査読あり
  • [雑誌論文] 化合物半導体界面におけるバンドアラインメントとフェルミ準位ピンニング2008

    • 著者名/発表者名
      長谷川英機
    • 雑誌名

      表面科学 29

      ページ: 76-83

    • 査読あり
  • [雑誌論文] High Temperature Sensing Characteristics of a High Performance Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Hydrogen Sensor Obtained by Oxygen Gettering2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. c 5

      ページ: 1959-1961

    • 査読あり
  • [雑誌論文] GaAs High-k Dielectric Metal-Insulator-Semiconductor Structure Having Silicon Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      accepted for publication in phys. stat. sol. c 5

      ページ: 3 pages

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Interface Models and Processing Technologies for Surface Passivation and Interface Control in III-V Semiconductor Nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      Applied Surface Science (in press ; available online) 254

      ページ: 11 pages

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface passivation technology for III-V semiconductor nanoelectronics2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      accepted for publication in Applied Surface Science 254

      ページ: 6 pages

    • 査読あり
  • [雑誌論文] PERFORMANCE COMPARISON OF InP AND AlGaN/GaN SCHOTTKY DIODE HYDROGEN SENSORS2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      accepted for publication in Proceeding of 20th International Conference on Indium Phosphide and related Materials

      ページ: 3 pages

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Hydrogen Sensing Characteristics and Mechanism of Pd/AlGaN/GaN Schottky Diodes Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25

      ページ: 1495-1503

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Sensing Dynamics and Mechanism of a Pd/AlGaN/GaN Schottky Diode Type Hydrogen Sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      phys. stat. sol. (c) 4

      ページ: 2629-2633

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Formation of Ultrathin SiN_x/Si Interface Control Double Layer on (001) and (111) GaAs Surfaces for Ex-situ Deposition of High-k Dielectrics2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25

      ページ: 1481-1490

    • 査読あり
  • [学会発表] Interface Control of High-k MOS Gate Stack for GaAs nanowire Transistors (invited)2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      Symposium on Surface and Nano Science 2008
    • 発表場所
      Hotel Appi Grand, Appi, Iwate, Japan
    • 年月日
      2008-01-23
  • [学会発表] Frequency Dispersion of GaAs High-k MIS Capacitors with Si Interface Control Layer2008

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      La Fonda Hotel, Santa Fe, New Mexico, USA
    • 年月日
      2008-01-16
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Steady State and Transient Behavior of Currents in Low-Leakage Planar Schottky Diodes Formed on AlGaN /GaN Heterostructures2008

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      35th Conference on the Physics & Chemistry of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      La Fonda Hotel, Santa Fe, New Mexico. USA
    • 年月日
      2008-01-16
  • [学会発表] Silicon Interface Control Layer Based Surface Passivation Method and Related High-k MIS Gate Stack for GaAs Nanowire MISFETs2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      International Symposium on Advanced nanodevices and Nanotechnology
    • 発表場所
      Waikoloa Beach Marriot, Waikoloa, Hawaii, USA
    • 年月日
      2007-12-03
  • [学会発表] GaAs High-k Dielectric MOS Structure Having Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      The 34th International Symposium on Compound Semiconductor
    • 発表場所
      Kyoto University, Kyoto, Japan
    • 年月日
      2007-10-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Dynamic behavior of metal contacts formed on AlGaN/GaN heterostructure2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      7th International Conference on Nitride Semiconductor
    • 発表場所
      MG Grand Hotel, Las Vegas, Nevada, USA
    • 年月日
      2007-09-19
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Sensing and current transport mechanisms of a high performance Pd/AlGaN/GaN Schottky diode hydrogen sensor2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      7th International Conference on Nitride Semiconductor
    • 発表場所
      MG Grand Hotel, Las Vegas, Nevada, USA
    • 年月日
      2007-09-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Interface Control Technology for Surface Passivation of III-V Semiconductor Nanostructures (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      5th International Workshop on Semiconductor Surface Passivation
    • 発表場所
      GEOVITA, Zakopane, Poland
    • 年月日
      2007-09-18
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Surface passivation technology for III-V semiconductor nanoelectronics (invited)2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      11th International Conference on the Formation of Semiconductor Interfaces
    • 発表場所
      Tropical Eco Resort, Manaus-Amazonas, Brazil
    • 年月日
      2007-08-20
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
  • [学会発表] Complete Removal of Fermi Level Pinning at High-k Dielectric/GaAs (001) and (111)B Interfaces by a Silicon Interface Control Layer2007

    • 著者名/発表者名
      M. Akazawa, H. Hasegawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 年月日
      2007-06-21
  • [学会発表] Performance Enhancement and Sensing Mechanism of Pd/AlGaN/GaN Hydrogen Sensors Subjected to Oxygen Gettering2007

    • 著者名/発表者名
      H. Hasegawa, M. Akazawa
    • 学会等名
      2007 Electronic Material Conference
    • 発表場所
      University of Notre Dame, South Bend, Indiana, USA
    • 年月日
      2007-06-20
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より

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公開日: 2010-06-11   更新日: 2016-04-21  

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