エレクトロスプレー分子インプリント法による光学分割膜の創製

2008 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 18360373
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 化工物性・移動操作・単位操作
• 研究機関: 京都工芸繊維大学
• 研究代表者: 吉川 正和 京都工芸繊維大学, 工芸科学研究科, 教授 (60158417)
• 研究期間 (年度): 2006 – 2008

研究概要

簡易分子インプリント法を適用することにより、構造形成可能な高分子材料を光学分割材料へと変換するときに、同時にエレクトロスプレーデポジション法を適用し、分子インプリントナノファイバー膜を創成した。このようにして創成された分子インプリントナノファイバー膜は従来の簡易分子インプリント法を適用することにより創成された透過選択性を維持しながら、その透過選択性をオーダー的に2桁向上させることに成功した。本研究課題を遂行することにより得られた結果は、今後、光学分割をはじめとする、精密ろ過、限外ろ過等の多孔膜による膜分離膜の膜形態がナノファイバー膜の膜形態へと移行することを予見するものである。