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2006 年度 実績報告書

サイクロトロンを必要としないPET用分子イメージング薬剤製造システムの構築

研究課題

研究課題/領域番号 18390015
研究機関長崎大学

研究代表者

中山 守雄  長崎大学, 大学院医歯薬学総合研究科, 教授 (60164373)

研究分担者 原武 衛  長崎大学, 大学院医歯薬学総合研究科, 助教授 (40325668)
小野 正博  長崎大学, 大学院医歯薬学総合研究科, 助手 (80336180)
荒野 泰  千葉大学, 大学院薬学研究院, 教授 (90151167)
古嶋 昭博  熊本大学, 生命資源研究支援センター, 助教授 (20161903)
キーワードGe-68 / Ga-68 / ジェネレータ / PET / 分子イメージング / 多孔性樹脂
研究概要

PET(Positron emission tomography)による画像診断は,短半減期放射性核種を使用するため,サイクロトロン施設の併設を必用とする。我々は,サイクロトロンを使わない^<68>Gaの製法である^<68>Ge/^<68>Gaジェネレータシステムの構築を行っており,N-Methylglucamine基(MG)を有する樹脂が,Ge及びGaに望まれる吸脱着挙動を示すことを見出している。本年度の研究では,親水的な多孔性高分子母体にMGを導入し,Ge及びGaの吸脱着挙動への母体構造の効果を検討した。
Glycidyl methacrylate(GMA)及びEthylene glycol dimethacrylate(EG)にMethyl iso-butyl ketone(MIBK,多孔化剤)を混合し,懸濁重合法により高分子母体(PGMA-EC,粒子径0.25〜0.50mm)を合成した。PGMA-EGにMGを付加させPGMA-EG-MGへ誘導した。樹脂の比表面積はN_2ガス吸着法,非放射性Geはフェニルフルオロン法で測定した。^<68>Geの吸脱着率は^<68>Gaの放射活性から算出した。
重合反応時のGMA,EG及びMIBKの混合比を変化させ,種々のPGMA-EGを合成した。得られたPGMA-EGの比表面積は15〜100m^2/gであり,EGおよびMIBK混合割合の増加に伴って増大した。PGMA-EG-MGのGeに対する平衡吸着量は0.07〜0.42mmol/gであったことから,PGMA-EG-MGのGe吸着能が確認された。比表面積の最も大きなPGMA-EGから誘導したPGMA-EG-MGへのGeの吸着は,30分以内にほぼ平衡に到達した。さらに,同じPGMA-EG-MGをカラムに充填し^<68>Geを吸着させた後,0.1M Trisodium Citrate溶液を通液すると,速やかな^<68>Gaの脱着が観察された。その際,カラムからの^<68>Geの脱離は殆ど認められなかった。これらの結果は,樹脂の母体構造はGe及びGaの迅速な吸脱着挙動に影響を与える因子の一つであることを示していると考えられた。

  • 研究成果

    (1件)

すべて 2007

すべて 産業財産権 (1件)

  • [産業財産権] Ge吸着剤2007

    • 発明者名
      中山 守雄, 原武 衛, 五十嵐 隆
    • 権利者名
      長崎大学第一RI
    • 産業財産権番号
      国内特許、特願2007-053504
    • 出願年月日
      2007-03-02

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公開日: 2008-05-08   更新日: 2016-04-21  

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